光刻机自主研发公司有哪些企业（光刻机自主研发公司有哪些企业招聘）

生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司：ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

ABM总部位于美国硅谷，亚太销售服务、维修中心设于中国香港，公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能（Canon），是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团，从1937年成立以来，经过多年不懈的努力，佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

参考资料来源：百度百科-ABM

参考资料来源：百度百科-佳能

参考资料来源：百度百科-尼康

参考资料来源：百度百科-上海微电子装备有限公司

中国大陆哪几家企业生产光刻机？

成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景：

（1）光刻机用于大学研发、实验室设备。

（2）工厂用于做空空导弹跟踪器、发光二极管、传感器、手机芯片、霍尔元件

A、发光二极管：用于在十字路口红绿灯、公交车、汽车灯用在每到一站的显示。

B、传感器：用于高铁到站传输信号准确定位。

C、手机芯片：用在手机卡上，还有手机显示屏面。

D、霍尔元件：用于冰箱开灯亮、关灯熄灭。

E、卫星：卫星上面用于卫星角度的调整。

主要合作院校和单位有：

中国科学院半导体研究所、中国工程物理研究所

清华大学、北京大学、北京理工大学、复旦大学

南开大学、福州大学、浙江大学、武汉大学

安徽大学、华东师范大学、东北大学、厦门理工学院

中国核动研究设计院、重庆技术职工学院、成都理工大学

贵州大学、昆明理工大学、华南师范大学、青岛航天半导体研究所

常州银河电器有限公司、浙江正邦电子股份有限公司、江苏一光仪器有限公司

江苏车晨电子科技有限公司、上海航天控制技术研究所、上海空间研究中心

哪些国家能制造光刻机，都有哪些企业？

全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康、佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度。

目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货。

光刻机的分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。

2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。

3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

光刻机唯一上市公司

光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

拓展资料：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

国内自己能生产的光刻胶企业有哪些?

一、晶瑞电材：

公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

公司主要的优质客户资源包括有研半导体、晶澳科技、三安光电、宸鸿光电、信利、华润上华等。半导体客户是对超净高纯试剂要求最高的领域，公司拳头产品双氧水已进入国内知名半导体厂商的供应链考察体系，其中华虹宏力已进入上线评估，武汉新芯已进入验厂审核，中芯国际正在进行技术确认。

二、芯源微：

产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶／显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）。

下游客户覆盖国内主要LED芯片制造企业和集成电路制造后道先进封装企业，与包括台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、华灿光电等在内的多家优质客户保持着长期稳定的合作关系。

三、华懋科技：

公司通过投资的方式参股徐州博康，该公司是国内主要的产业化生产中高端光刻胶单体的企业，是国际上先进的EUV光刻胶单体发明者、生产者，单体产品覆盖全球90%以上客户群，下游客户包括Intel、JSR等。

公司的主要生产设备均来自日本、德国、瑞士、法国等先进机械制造国家，在OPW一次成型气囊产品和切割生产工序实现了智能化，在国内同行业处于先进水平，为提高生产效率、保持产品的质量稳定性提供了保障。

四、彤程新材：

公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权，北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。

公司成功研发出使用多聚甲醛生产功能树脂技术，替代了传统的液醛工艺，使得含酚、含醛工艺废水减少70%，解决了橡胶用酚醛树脂生产过程中产生难以处理的含酚、含醛污水的问题。