中国研发光刻机不侵犯专利吗（光刻机中国有专利吗?）

比亚迪开始攻克7纳米芯片和光刻机，超越ASML公司，有可能吗？

超越ASML公司是不大可能的，目前能够设计丶研发7纳米芯片的企业，有好多家，以比亚迪的技术能力，研发7纳米芯片，应该不成问题。至于说，比亚迪要研发光刻机，那就是说说而已，大家不必当真。

我国曾经就高端光刻机的制造问题，请教过一位德国的工业专家。这位专家说，单从工业技术能力上看，我国要仿造出高端光刻机，也就是几个月的事情，但是我国若想造出拥有自主知识产权的高端光刻机，只怕至少需要七、八年之久。

这位先生坦言，我国是一个彻底完成了工业化的国家，而且拥有全球最为完整的工业体系。我国若不考虑知识产权，不顾及国际声誉，去强行仿造ASML公司的高端光刻机，那就是小事一桩！但是，我国如果要合法的发展电子信息产业，我国就不能去侵犯ASML的知识产权。

由于ASML的高端光刻机，涉及到的知识产权数，多达上万个，而且ASML高端光刻机占据着最佳的技术路径，所以我国若要制造拥有自主知识产权的高端光刻机，将会是十分困难的事情。

没有个七八年时间，我国是无法解决高端光刻机的自主知识产权问题的，也是无法绕过ASML高端光刻机的技术路径的！这也是ASML的高管曾经叫嚣，就算将ASML高端光刻的图纸丶技术参数丶制造工艺全都交给我国，我国也无法造出高端光刻机的原因所在！其实，美国拿华为5G技术没辙，也是同样的原因。

有鉴于研发高端光刻机的技术难度太大，比亚迪显然不具备这样的技术实力。

如果比亚迪要造高端光刻机，大概只有两个办法:一是花巨资，全资收购ASML；二是花钱购买ASML的技术专利，然后自己着手制造高端光刻机。不过从目前情况看，比亚迪几乎不可能得手！

光刻机巨头ASML称东方晶源可能侵权，中企对此作何回应？

光刻机巨头ASML称东方晶源可能侵权，中企对此作何回应？下面就我们来针对这个问题进行一番探讨，希望这些内容能够帮到有需要的朋友们。

荷兰光刻机大佬阿斯麦（ASML）声称，中国公司东方晶源（DongFangJingYuanElectron，DFJY）已经中国积极主动市场销售很有可能（couldpotentially）侵犯该公司专利权的商品。

阿斯麦还称，中国东方晶源与一家早已倒闭的美国公司XTAL存在关系，后面一种曾在2019年被美国法院曾判断侵害阿斯麦的专利权。阿斯麦称，早已告之顾客不必帮助中国东方晶源从业该类潜在性的侵权责任。阿斯麦还表露，该公司已向中国监督机构告知有关信息，已经紧密检测有关状况，并打算在恰当的机会采用法律行动。

对于此事，中国东方晶源的工作员称临时不方便回复这事。而阿斯麦中国层面称，这事与XTAL以前的侵权案相关，是年度报告中的一切正常公布。阿斯麦已经密切关注中国东方晶源的动态性，现阶段并未提前准备采用法律法规对策，但如果有确凿证据该公司将诉诸法律。

中国东方晶源官方网站消息表明，该公司全称之为中国东方晶源微电子科技（北京）有限公司创立于2014年，总公司坐落于北京亦庄经济技术开发区，是一家致力于集成电路合格率管理方法的公司。

从实际业务流程看来，中国东方晶源关键设备为纳米离子束视觉检测武器装备（EBI）和重要规格测量武器装备（CD-SEM）、测算光刻商品（OPC）及其电子光学设计方案与生产制造智能化合格率优化平台（HPOTM）。

中国东方晶源公司在官方网站称，其商品均为自主研发且处在中国领先地位，可以合理处理中国集成电路产业链好几个难题。该公司还提及，中国东方晶源自创立至今坚持不懈以引领发展趋势，申报世界各国专利发明145项，授权专利发明49项，手机软件着作权14项，商标注册15项。

2021年9月，中国东方晶源公布，该公司进行新一轮几亿元股权质押融资，这轮股权融资由赛领资本、深创投领投，诸多著名风险投资机构协同项目投资。“此次股权融资将有利于中国东方晶源加速在集成电路前道离子束检验、测算光刻系统软件等关键商品的产品研发过程，加快在集成电路合格率管理方法行业的总体合理布局。”

阿斯麦公布的财务报告表明，该公司2021年营业收入为186亿欧（折合RMB1339亿人民币），同比增加33%；纯利润为59亿欧（折合RMB425亿人民币），同比增加66%；毛利率是53%，比上年同期提升4个点。2021年，该公司共交货309台光刻机，比2020年空出51台；在其中极紫外光光刻机42台，比2020年多11台。

如果没有专利限制中国可以找最先进的光刻机吗

不可以。

当然最先进的光刻机，是荷兰ASML公司制造的。由于受到专利限制，我国没法买ASML制造的光刻机。当前上海微电子已研发出支持28nm工艺的光刻机，首台已于2021年初交付客户。28nm虽然相当于荷兰ASML公司十年前的水平，但是却代表了我国目前最高端的技术。

为什么光刻机不需要大学和研究机构操心？中国突破需要几年？

近年来，随着我国科技的高速发展，美国为了保住自己第一科技大国的地位，便开始对我国高新技术企业进行打压，而且手段不断在升级。而在美国所有的制裁手段中，芯片断供成为了他打压我国企业最常用、最有效的手段。

任正非曾表示，我国拥有世界上最顶尖的芯片设计企业，但由于EUV光刻机被卡了脖子，在美国实行芯片断供的政策后，我国无法独自制造出企业发展所需的高端芯片。

众所周知，世界上EUV光刻机做得最好的是荷兰ASML公司，垄断着全球100％的EUV光刻机市场。然而，由于ASML公司的EUV光刻机使用了大量美国的元器件和技术，就不得不遵守美国的商业法律，不能将EUV光刻机卖给我国企业。但是，EUV光刻机又是制造高端芯片的核心设备，高端“中国芯”该如何突破重围呢？

芯片禁令落地之后，中科院发出中国最强音，宣布成立EUV光刻机科研攻关小组，争取在短时间内研制出国产EUV光刻机，为我国企业的发展保驾护航。除此之外，国内也有很多高校开始将研发重心转移到EUV光刻机的研发之中。甚至有的人高呼，我们要集全国之力将EUV光刻机搞出来。

然而，让人想不到的是，任正非却在接待9大高校校长时表示，研发EUV光刻机无需大学和研究机构插手，这是为什么呢？笔者认为，任正非之所以会这样讲，主要还是与科学技术的发展规律有着很大的关系！

众所周知，科技发展有两种情况，一种是科研式研究，做的是基础理论、材料、技术的研发工作；第二种是商业性研究，主要是技术、设备、产品的研发，存在着一定的功利性。

高校和研究机构的强项在于基础研究，在具体产品研究方面存在着很大的短板。因为在取得基础理论的突破后，他们并不知道该如何将这些产品商业化。而企业与高校和研究机构恰恰相反，企业就是在基础理论取得突破后，投入大量资金，将具体产品做出来，然后不断提升他的质量、稳定性、良品率等，最后将它的成本降下来。这些能力都是研究机构和高校所不具备的。所以，如果高校和研究机构都去搞具体的东西，很有可能会失掉自己赖以存活的根本。

台积电创始人张忠谋曾表示，即便是中国集全国之力也造不出EUV光刻机，这让很大一部分人觉得EUV光刻机很神秘、很强大，是世界上最顶尖的东西。其实，光刻机并没有大家想象中的那么难造！

我们之所以会觉得EUV光刻机很难造，一方面是受了张忠谋的影响，另一方面是由于光刻机的市场很小，国内没有大规模制造EUV光刻机的企业，这才让大家觉得ASML公司很牛，能卡住我国芯片制造环节的脖子。

随着智能时代的到来，越来越多的智能电子产品需要芯片的支撑，芯片的消耗量也会越来越大，再者就是以美国为首的西方国家不断对我们进行芯片卡脖子，国内企业光刻机的需求量不断增加，所以我们研发自己的EUV光刻机已迫在眉睫。

其实，我国不是没有光刻机，只不过是没有做成高端而已。但是，随着国内光刻机市场的扩大，美国不断对我们进行封锁，国内企业已经开始在光刻机方面不断投入大量资金，进行技术的研发和更新，尤其是国内已经发现了可用于EUV光刻机的光源，笔者坚信，两三年之后，国产光刻机必定能取得重大突破。

国产3nm芯片刻蚀机取得突破 美企多次窃取中微专利

紫金 财经 5月8日消息 近日，国产芯片行业传来好消息。据媒体报道，中微公司成功研制出3nm蚀刻机，且完成了原型机的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估，并已进入量产阶段。

之前，中微的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户先进集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。此次3nm刻蚀机诞生，使得中国芯片企业以后能够参与到更先进的高端芯片制造产业链中。

众所周知，半导体工艺流程主要包括晶圆制造、设计、制造和封测几个环节。每个环节不但需要高尖端技术，还需要大量的软件和硬件设备。单晶硅片制造需要单晶炉等设备，IC制造需要光刻机、刻蚀机、薄膜设备、扩散离子注入设备、湿法设备、过程检测等六大类设备。其中，光刻机、刻蚀机、薄膜设备最为主要。

光刻机的工作原理与冲洗照片差不多，就是通过显影技术将线路图复制到硅片上。而刻蚀机的工作原理是按光刻机刻出的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，刻出沟槽或接触孔。刻蚀机利用显影后的光刻胶图形作为掩模，在衬底上腐蚀掉一定深度的薄膜物质，随后得到与光刻胶图形相同的集成电路图形。

ASML公司EUV光刻机工程师曾表示，光刻机是人类智慧的结晶，把光当成画笔，将集成电路线路图复制到硅片上。而刻蚀机则像是工匠手中的一把雕刻刀，要在头发丝几千万分之一面积的大小上做几十层楼的“龙骨”建设，直接决定了芯片的工艺制程。

在高端芯片数百亿根晶体管，集成电路的勾勒雕刻过程中，至少需要上千个工艺步骤。但如此高端、复杂的刻蚀机最终被中微半导体突破，一直自认为技术领先的美国企业大为不满。

近年来，美国半导体设备公司美国应用材料、泛林研发、维科为了遏制中微的发展，轮番向中微发起了商业机密和专利侵权的诉讼，意欲遏制中微的发展。所幸的是，中微早做了充分的准备，他们在国内外申请了1200多件相关专利，其中绝大部分是发明专利，有力地保护了其自主创新形成的知识产权。

中微掌门人尹志尧曾表示，中微是国内被美国起诉最多的半导体公司，其中主要有四场大官司。这四场官司包括了专利诉讼，商业机密等多个方面，但是无一例外，中微都取得了胜利或者达成了和解。

据悉，美国维科在蚀刻机市场被中微打得节节败退，为了遏制中微迅猛的发展势头，维科在纽约联邦法院对中微的石墨盘供应商SGL发起了专利侵权诉讼，并索要巨额赔偿。但事实是SGL并没有侵犯维科的专利，反而是后者盗用了中微的晶圆承载器同步锁定相关专利。

为了保护自己的合法权益，中微直接发起反击，向上海海关递交了扣押维科侵权的商品，这批货物价值3000多万，直接给予维科重创，使得其不得不做出妥协，主动寻求中微的谅解，双方最终达成专利交叉授权协议。

如今，中微在蚀刻机领域已经全球领先，但在整个芯片领域，我们还没有实现芯片工艺的全国产覆盖。受制于国外的设备，我国在高端芯片上和欧美还相差一段距离，逻辑器件技术水平上差三代左右，也就是5到10年的差距。

从现阶段看，国内厂商与全球龙头技术差距正在逐渐缩短，国产替代迎来机遇期，中微公司掌握3nm刻蚀技术的消息也给半导体行业的发展带来了信心。尹志尧曾表示，中国人注重数理化，工程技术，又有耐心，最适合搞集成电路。“只要我们有一定的耐心，将来一定会成为世界芯片领域先进的国家”。

如果我造出来了pm级的光刻机，我可以当院士么？

不可以的，如果你先申请得到了专利权，那么别人再来模仿就算侵权，需要给你经济补偿。

第四十四条 有下列情形之一的，专利权在期限届满前终止：

（一）没有按照规定缴纳年费的；

（二）专利权人以书面声明放弃其专利权的。

专利权在期限届满前终止的，由国务院专利行政部门登记和公告。

第四十五条 自国务院专利行政部门公告授予专利权之日起，任何单位或者个人认为该专利权的授予不符合本法有关规定的，可以请求专利复审委员会宣告该专利权无效。

第四十六条 专利复审委员会对宣告专利权无效的请求应当及时审查和作出决定，并通知请求人和专利权人。宣告专利权无效的决定，由国务院专利行政部门登记和公告。

对专利复审委员会宣告专利权无效或者维持专利权的决定不服的，可以自收到通知之日起三个月内向人民法院起诉。人民法院应当通知无效宣告请求程序的对方当事人作为第三人参加诉讼。

第四十七条 宣告无效的专利权视为自始即不存在。

宣告专利权无效的决定，对在宣告专利权无效前人民法院作出并已执行的专利侵权的判决、调解书，已经履行或者强制执行的专利侵权纠纷处理决定，以及已经履行的专利实施许可合同和专利权转让合同，不具有追溯力。但是因专利权人的恶意给他人造成的损失，应当给予赔偿。

依照前款规定不返还专利侵权赔偿金、专利使用费、专利权转让费，明显违反公平原则的，应当全部或者部分返还。

第六章 专利实施的强制许可

第四十八条 有下列情形之一的，国务院专利行政部门根据具备实施条件的单位或者个人的申请，可以给予实施发明专利或者实用新型专利的强制许可：

（一）专利权人自专利权被授予之日起满三年，且自提出专利申请之日起满四年，无正当理由未实施或者未充分实施其专利的；

（二）专利权人行使专利权的行为被依法认定为垄断行为，为消除或者减少该行为对竞争产生的不利影响的。