CPU是经过光刻机出来的,安检时是X光,CPU的制程越高,X光对他的影响越大,相当于光刻机在CPU上面又走一道,多多少少会有影响
光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路,当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。
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光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。
可以分为两种,分别是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴芯片;以及利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。
制作CPU最主要的是需要一台光刻机。
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);
在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
曝光机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵,通常在 3 千万至 5 亿美元。
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光刻机百度百科
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