光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。
扩展资料
2019年与2020年在半导体领域,尤其是企业之间,光刻机是被炒得最热的一个话题,再怎么说芯片,最终都会说到光刻机上面去。
可能出口给我们DUV光刻机生产7nm的芯片,却将最先进的EUV光刻机出口给别的企业生产5nm芯片,即使不专门生产芯片的谷歌、高通,ASML也卖他们EUV光刻机。
参考资料:百度百科-光刻机
光刻机到底是什么高科技机器?为什么总是重金难求?这台机器到底有什么重要的作用呢?想要了解这些,我们就要从光刻机的生产制造开始说起了。
说起来,大众对于光刻机多少会有一些印象和了解。自从中兴和华为受到美国的打压之后,我国的手机芯片发展也就被卡了脖子。没了芯片,自然也就发展不了手机业务和通讯业务。而光刻机,就是在芯片制造过程中尤为重要的核心。
芯片的制造可不是想象中那么简单的。芯片的计量单位都是以纳米为单位的。也就是说,芯片的制造对于精度的要求太高了,只有光刻机能够做到。目前来看,只有荷兰高科技企业ASML可以生产出EUV光刻机,所以“物以稀为贵”,这项技术的价格就肯定会高的离谱。
加上荷兰等国家的知识产权保护意识和专利意识,他早就已经申请了相关的专利,核心技术自然也就是秘密了。对于其他的国家就只能是可望而不可及了。
“吃一堑长一智”,在被技术封锁之后,我国的华为、中兴等很多高科技公司都已经在这方面花费了很多的精力和财力。目前应该也是取得了一些成果和突破。
这条道路是很漫长的,我们要从一穷二白开始做起。不过我们中国人从来都不怕困难,只要我们不断的努力,那么终究有一天我们也能够打破技术的瓶颈,制造出我们自己的光刻机,甚至比外国人更先进。那时候我们就再也不会担心别人的技术封锁,再也不用承担高额的专利费用,也再也不用向别人低声下气,我们就是技术的持有者。从无到有,中华民族用智慧创造了太多奇迹,加油,我的国!
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光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动
A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了。
B半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
C自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
1、光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.
2、因为芯片远比这小得多,动不动就是nm的,这些最小也就是μm级别,那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了,用光线在芯片上刻,就是光刻机。
3、Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。形象的来说光刻机就是个“投影仪”,把我们想要的图案投影到芯片上。
刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。
光刻机是干什么用的
光刻机决定了芯片的精密尺寸,设计师设计好芯片线路,在通过光刻机将线路刻在芯片上,其尺度通常在微米级以上。
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。
其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要。
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