中国研制成功7nm光刻机是真的吗（中国光刻机技术已经成功突破7nm）

中科院发话了！国产7nm真的要来了

最近两年里，台积电的订单数量达到了暴增的程度，据悉当前台积电一家就拿下了全球54%的芯片代工订单，是当之无愧的全球第一芯片代工厂商， 并且在这些订单背后都是苹果、高通、联发科、英特尔、AMD这类顶级的芯片巨头。

而台积电之所以如此受芯片巨头们的欢迎，一切都得益于台积电超高精度的芯片制程和颇高的良率， 毕竟只有更高精度的芯片制程才能够让各大芯片巨头们设计的芯片更好地发挥出性能，同时也可以兼顾到功耗问题，在这一点上即便是三星电子都要向台积电看齐。

之前在我国内地地区的芯片设计企业也将高精度的芯片制造订单交给了台积电，但是自从2020年5月份之后，台积电受到美国相关进出口条例限制，无法向华为公司提供芯片代工业务之后， 我国芯片代工企业也开始加速自主芯片制程技术的高精度发展，并且取得了非常不错的成绩。

首先是在2019年中芯国际公司正式对外宣布表示，公司正式完成了14nm制程芯片的量产，并且良率也可以得到保证，而后在2020年11月份，中芯国际传出了在2021年4月份风险试产7nm芯片的消息，这意味着中芯国际的代工技术已经逐渐走向了世界一流水准， 并且需要知道，中芯国际的7nm制程还是在使用DUV光刻机的情况之下实现的，如果换成EUV光刻机，精度一定能够再一次上升。

不过，4月份早已经过去，但是中芯国际并没有揭露后续7nm芯片风险试产的消息，外界都以为这一次中芯国际风险试产失败了，所以并没有公布后续结果。

但是，就在近日中科院方面正式发话了，中科院计算机研究所副所长包云岗博士在接受采访时表示， 在4月份国内已经实现了7nm芯片试产并取得阶段性成功，如果顺利的话，今年年底或者明年年初即可实现7nm芯片的量产。

中科院副所长的发话算是帮助中芯国际证实了其7nm芯片技术的发展现状，同时也意味着国产7nm真的要来了。

但是，即便是中芯国际的7nm芯片技术获得了突破，我国芯片技术的发展仍然是任重道远的，因为即便是中芯国际今年实现7nm量产，但是华为依旧是无法使用的， 因为在这些量产过程中仍然是含有美国技术参与的，所以在供应的时候仍然会受到美国进出口条例限制。

但是，好消息是，根据之前行业预判以及中国电子信息产业发展研究院电子信息研究所所长温晓君的认可， 我国将在今年实现28nm芯片100%国产供应，明年实现14nm量产，而这些都是可以直接为华为代工的芯片技术，不受任何条例限制的技术。

相信在2025年之前，7nm芯片甚至是5nm芯片也将被我国完全自主突破，届时我国的芯片事业发展将不受任何地区限制。

芯片技术不是单一性技术，是一条产业链的技术，在国产芯片技术突破的过程中，芯片制程的发展的确很重要， 但是在芯片制程突破的这个环节里，将需要国产EUV光刻机、国产半导体用光刻胶等众多高精尖技术的参与。

但是，好在我国企业正在半导体领域创造奇迹，只用了短短2年时间，就将纯国产芯片生产制程从90nm拉到了14nm， 相信接下来我国在芯片领域一定能够绽放更加靓丽的光彩。

你觉得纯国产7nm芯片什么时候能够来到呢？

国内芯片突破！与荷兰光刻机完成联机！国内已可生产7nm芯片？

国内芯片突破！与荷兰光刻机完成联机！国内已经可生产7nm芯片？

为了打压中国 科技 兴起步伐，美方已经将国内众多科研机构以及 科技 公司列入了禁令名单，这点已经是大家清楚的。

打压的前提就是我们使用了这些技术，并且在某些方面已经威胁到了美方，因此我们可以将这份名单，从某种意义上来看作是一分光荣榜。

而在这份“光荣榜”上，华为和中兴国际是芯片领域的巨头，对于美方来说，对于华为最为头疼的就是华为的5G研发，和芯片设计。

就截止目前为止，华为方面5G专利已经超过了3100份，如此庞大的5G专利数量，就是美方举国内所有 科技 企业的5G专利数量加起来都达不到，这是其一。

其二，在芯片方面，华为海思除了能够设计研发最先进的5G芯片之外，其次还是中国两大安防企业海康和大华的最大合作伙伴，每年为其提供芯片，而所谓的“信息安全”是美方愿意看到的吗？

因此美方只能强力地对华为方面进行打压。

中芯国际呢？则与华为方面不同，就国内而言，中芯国际是最强的芯片制造企业，中芯国际CEO梁孟松说过，中兴国际目前14nm良品率已经达到了业界先进水平，7nm芯片也已经完成了研发，明年就可以进行风险量产。

而在美方呢？最大的芯片制造企业就是英特尔，但是目前英特尔在国际上地位逐渐势微，并且7nm芯片量产两次延期，如果这么看的话，中兴国际说不定要比英特尔方面还要快速量产7nm芯片，这也是美方打压中芯国际的原因。

可以这么说，华为是因为信息安全，以及芯片设计被美方打压，那么中芯国际就是在制造方面被美方打压。

这让我们知道了，如果国内想要实现突破，首先芯片制造的设别要跟上，其中包括现在网上最常说的光刻机、刻蚀机、离子注入机、涂胶显影机等等，这么多的设备，国内想要视图突破的难度可想而知。

曾经荷兰ASML公司说过，就算是将图纸给了国内，国内也造不出来，此言何其狂妄，不过也是事实，而国内一直没有放弃，一直在尽力追赶。

并且现在已经有了突破，上海微电子称，国产28nm光刻机即将交付，并且通过多次曝光技术，还可以用这台机器生产7nm芯片，也就是说7nm芯片，国内已经基本吃成为定数。

中微半导体的5nm刻蚀机，已经交付台积电方面进行使用，离子注入机也已经研发成果，一切都在有条不紊地进行着。

一切都变得越来越近，2021年1月7日，芯源微表示涂胶显影机已经实现突破，目前正在与荷兰ASML、佳能、上海微电子的光刻机实现联机试用。

涂胶显影机在芯片制造中是必不可少的一环，主要用于在光刻机之前，对晶圆进行涂光刻胶，这一步决定了此后光刻机进行光刻的成品率，此前该技术一直被美方与日本巨头垄断，如今国内已经实现了突破，虽然目前可能依旧有着技术差距，但是好歹是成功了，我们也不再被垄断。

国内对于芯片研发的决心是巨大的，并且身后有国家扶持，此前国家大基金已经为半导体准备了4000亿资金用于研发，并且在税收方面也给予了扶持，此后国内半导体企业将越来越多，全面赶超美方。

在如此大环境下，国内必将快速实现突破，并且技术正在不断突破，或许在以后就将验证比尔盖茨的那句话，美方或许终将后悔，对此你怎么看呢？

中国7纳米芯片能量产了吗

上周，已经在港交所递交IPO申请的矿机制造商嘉楠耘智召开发布会，宣称实现全球首个7nm(纳米)芯片成功量产。对于倍感“缺芯之痛”的国人来说，这个消息当然让人振奋。本周甫一开盘，A股芯片概念板块集体大涨，显示资本市场也对这一消息予以正面回应。

“缺芯之痛”，不但是中国半导体行业之痛，也是民族产业之痛。前几个月，美国商务部宣布对中兴通讯采取出口管制措施，引发了全民对国产芯片的关注。

数据统计，中国集成电路产品连续多年每年进口额超过2000亿美元，一旦缺“芯”，可以想象会面临什么困难。全球首个7nm芯片成功量产，是国内专用芯片领域的一次突破和领先。

7nm芯片成功量产对于芯片行业有什么意义呢？无论是设计还是加工工艺上，7nm芯片都代表着先进的技术，能让终端能耗更低、速度更快。浙江省半导体行业协会秘书长陈光磊表示：“一家公司设计开发出7nm集成电路还是能够体现它的技术水平。一般情况下，7nm芯片只有大牌企业才能设计生产，现在浙江的小企业也能做，对芯片行业有一定的意义。”

对于7nm芯片，苹果要到8月才能量产，高通、联发科等一线IC设计大厂则要到9月或10月，而华为及旗下海思等国内头部企业也将在其后陆续实现量产。

但据嘉楠耘智高管介绍，该款7nm芯片虽然由嘉楠耘智负责设计和销售，却是由全球最大的代工芯片制造商台湾积体电路制造股份有限公司代工生产。也就是说，我们目前虽然能设计、研发7nm芯片，但大陆企业无法自己量产，还得由台积电代工生产。这是为什么呢？因为光刻机精度仍是大陆芯片制造行业的卡脖子环节。

光刻机是制约集成电路技术发展的重中之重，核心技术中的核心，被冠以“工业皇冠上的明珠”的称号。目前，世界上80%的光刻机市场被荷兰公司占据，高端光刻机也被其垄断。中国在努力追赶，但仍与国外存在技术代差。

本次7nm芯片只是用于区块链计算机“挖矿”，在手机、矿机领域，“中国芯”已占有一席之地。嘉楠耘智量产的7nm芯片有专门的用途，即用在由其自主开发的区块链超级计算设备“阿瓦隆”A9上，该设备在区块链网络中进行计算获取数字资产“比特币”。

虽然中国的芯片产业整体上还比较落后，但这并不妨碍我们在一些具体的应用场景中造出自己的芯片。在区块链技术火爆的今天，矿机专用的芯片基本上已经被中国的产品所垄断。

而在传统芯片领域已经被巨头所垄断的现实条件下，一些面向专门应用领域的芯片已经成为中国未来实现弯道超车的重点。比如除了手机芯片、矿机芯片，还有专门用于人工智能计算的AI芯片等等。

但我们也应当理性、客观地认识到，在难度更大的通用芯片领域，我们依旧存在着较大的短板，仍然需要更多踏踏实实的努力。我们要清醒认识到国产芯片行业的整体差距。正如陈光磊所说，“像苹果、华为、高通等行业巨头生产的通用芯片要满足综合性能，开发难度更大、投入成本更高、研发周期更长。专用芯片的性能要求则更加简化，设计与生产相对而言会简单一些。”

全球首个7nm芯片成功量产，当然是中国高端制造方面的突破，也是芯片领域的突破，说明中国芯片在手机、矿机等专用芯片领域有了实现弯道超车的可能性。

此外）吉利也传7纳米突破的喜讯。

国产最先进光刻机

第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。

而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。

第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。

2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。

根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。

请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”

也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。

22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”

有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破

中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。

华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

实用更是有很远的路要走。

大家放平心态。

国产7nm设备传来消息，中国芯片加速前行，台积电始料未及

众所周知，在芯片半导体领域，除了芯片是至关重要的，还有一些设备的重要性比起芯片来，也是丝毫不差的，若是没有这些设备，芯片的制造那就无法进行。

在此之前，我国之所以无法提高芯片制造的产能和技术水平，那就是因为这些设备都是为国外的企业垄断了，限制了我国的芯片半导体产业的发展。

为了改变这一现状，我国的，芯片半导体企业、科研机构与国内高校三方联手，倾力合作，立志要将生产制造芯片的所有有关的设备都研究开发出来，势必要让我国的芯片半导体企业摆脱国外的制约，打破国外企业的垄断。

正是在这种大环境下，那些被国外垄断的设备技术接连不断地传来破冰的喜讯。光刻机领域的突破，更是令国内的芯片半导体企业兴奋不已，要知道在光刻机领域，一直是由荷兰的阿斯麦公司所垄断，实质是由美国所掌控。其公司旗下的EUV光刻机是当今全球最为先进的光刻机。

如今，我国的上海微电子将光刻机实现了国产化，虽然只是28nm光刻机，比起荷兰的7nmEUV光刻机有些差距，但也是极其良好的开端，以后自然会实现高端光刻机的国产化。

此外，还有一些设备迎来了重大突破，比如，中国电科的28nm全谱系离子注入机，南大光电的Krf高端光刻胶，这些和上海微电子的光刻机一般，都是在28nm的精度水准。不过此时仍是28nm及其以上芯片的主流市场，所以说这些中低端设备的突破是有着极大的意义和作用的。

在这些中低端设备频繁传来喜讯之后，高端的设备也是不甘人后，同样传来了喜讯。近日，至纯 科技 公司正式官宣，14nm与7nm的湿法设备将于明年正式落地，并且该公司已经决定，将湿法设备供应给华为和中芯国际，这无疑将会给华为和中芯国际带来巨大的好处。

值得一提的是，中微半导体也实现了高端设备的突破，其研制的5nm刻蚀机已经实现国产化，并且总体性能不比国外的差。

在设备领域的不断破冰，给国人带来了极大的鼓舞，让国人相信我国的芯片半导体产业一定会达到乃至超越国际先进水平。

为了更好地集中优势资源，优化资源利用，我国在上海成立了总投资高达5000亿的东方芯港，从材料、技术以及设备等多个细分领域入手，从而促进中国芯的快速发展。

据悉，上海已经开始在3nm等先进半导体领域加大研究投入，给相关的先进芯片设备制造以及先进芯片研发的企业更过的政策扶持。这就吸引了华为、中芯国际、上海微电子以及中微半导体等国内顶尖 科技 类企业竞相入驻。

相信在国家的牵头下，得到更多政策扶持国内芯片半导体企业，将会更加注重于先进芯片的研究开发以及先进设备的研制。

如今中国的中低端产能已经达到了一个前所未有的高度，所以不用担心此时加大力度进军高端芯片领域而忽视中低端芯片领域。日产10亿颗以及单月399亿颗芯片产能，满足目前国内的芯片需求已是绰绰有余。

此时的中国已经完全不必担心中低端芯片产能不足了，所以自然就将重心慢慢向高端领域转移，以求缩短与国际先进水平的差距。

看到中国如此不遗余力地进行先进芯片以及先进设备研究开发，台积电的心算是彻底的慌了，甚至已经想到数年之后，中国实现了芯片的自给自足，无论低、中、高三种级别的芯片，还是各种生产制造芯片设备，都是具备齐全。

台积电作为全球最先进的芯片代工企业，占据着全球将近一半的市场份额，除了美国的订单外，基本上来自中国，若是中国真的实现了完全的自给自足，那么台积电自然要损失很大。

这是中国在经历制裁后，坚定不移要走的道路，谁也无法阻拦，如今的中国芯已经在中低端领域稳住根基，自然要全力占据高端领域。对于中国芯片领域的强势崛起，台积电始料未及，更是无法阻挡。

我国能不能自己造光刻机？大家相信我国能造出来吗？

确保国家粮食安全才是最重要的，在工业生产领域门类齐全，技术够用，怎么都能对付，当然，吃饱饭，有闲钱的时候做一些基础性前瞻性的技术研发和技术储备对一个央央大国来说也很有必要！但粮食安全仍然是第一位的。

改革开放以前，南京无线电所就在研发光刻机，，，还有大飞机运十，大连523军工厂主攻的是核电蓄电池和核电民用，后来这些项目先后下马，造成今天被动的局面，挺多的遗憾。有些高精尖的产品研发，不是一朝一夕能完成，真的需要积累突破，发现问题一项一项解决攻克难关。

不单是光刻机，其他还有许多尖端设备、技术还需要我们去攻刻。 我们中华大国，被外国强权欺凌百年，这笔账迟早要清算，英日美等心里也清楚，在我们刚建国时，即有胆量在朝鲜与老美一较高下，更何况当前我们发展的势头迅猛。 文无第一，武无第二。老美当然要千方百计给我们添堵，只有将我们搞垮，它才心安。

关系到国家发展关键困难时，举国之力制造光刻机不存在对他国来说是很恐怖的存在。这又不是毁灭人类的超级武器。只能让他国明白对中国的任何技术封锁在举国之力之下是徒劳的！

当年的钱学森教授，也是留学美国多年，几经周折才回国的。他所掌握的技术专业，也没有离开美国科技土壤。如今，中国开发研究芯片，也应本着全方位开放思想，有利的因素都调动起来。无论是国内，还是国外的，都把积极性整合好，奔向一个目标发力使劲，相信中国最终一定能攻克芯片之难关!

如果中国以一国之力很快轻而易举的造出了光刻机。5纳米、2纳米，就会给人感觉特别强势，世界其它国家就会更害怕了，就会更快的形成围堵中国的外部环境，得给它们留下慢慢适应的时间，或者叫温水煮青蛙。即使我们已经做出来了，也得给人感觉很不容易，我们付出了巨大代价。没有国家希望世界有个如此厉害的对手。

光刻机由多个系统组成，每个系统都是世界顶级技术，比如光学镜头是德国蔡司公司所制造。我们只要集中力量，三年后镜头超德国，五年后诺贝尔奖得主人数超欧美，只要五年时间，中国技术全面先进了，欧美学生纷纷来中国留学而不是中国学生去欧美留学，到了那一天高端光刻机必将能造！

说分分钟造出来虽然有些夸张，但造出来显然不是很难的问题。 高端光刻机，全球每年只有20亿美元的市场需求，在可以买到的情况下选择自己去造，那中国的公司一定是疯了。 用来制造国防军事领域芯片的大尺寸中端光刻机，中国一直有，而且早就有。 大家一定要搞明白这件事，和目前很多需要进口的零配件一样，中国不造，是基于市场考量，不是技术无法攻关。

很多中国没掌握的技术不是没能力，而是出于利益的问题不想做。举个圆珠笔那个圆珠的例子，很多人说偌大的国家笔芯圆珠都生产不出来，其实不是中国没能力做。日本有现成的珠子卖，价格也不高，买来用是最实惠的。如果中国自己作，首先研发是一笔费用，生产出来后因为附带研发成本，销售价格肯定要比日本同类产品价格高，销售没渠道，就是国内厂家也不会用高成本的产品，没有市场竞争力，也就是不赚钱，也就没有厂家做这事了。但如果上游掐了脖子不买给我们，做个笔芯珠子也就是很短时间的事。

光刻机不是人多就能造出来的。它需要的透镜的技术太苛刻，而且可能人工合成的透镜无法达到要求。日本有世界上唯一一块巨型天然透镜，是从非洲发现并购买回来的。唯一性是不可代替的，多少人也没办法弄出来。日本的顶级光刻机可能隐藏没有公布出来。

光刻机是 *** 很多国家的高科技企业，历时十数年才有今天的成就，中间申请的专利权不计其数，光刻机制造原理都知道，要想制造出领先水平的光刻机，可能性微乎其微，因为首先你要绕过他们的专利技术，再制造出光源，光学镜片，精密机械，不是一个国家三年、五年，甚至十年能办成的事。