国产光刻机交付中芯国际（中芯国际自主研发光刻机）

中国光刻机现在达到了哪个水平？

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。

这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

华为芯片将“被”再见，国产芯片难产背后的《瓦森纳协定》

这两天华为的“南泥湾计划”和“塔山计划”能成为焦点新闻，无不和华为Mate40搭载末代麒麟芯片，台积电自9月15日起不再为华为生产7nm高端芯片等有关。虽然华为表示即使台积电不再代工生产麒麟芯片，将会采用联发科的芯片，以及和高通达成专利交换，这些都难以打消我们的担忧，华为手机将何去何从。

再说说上两个计划，基本上围绕的就是打造自己的芯片生产体系，实现先进芯片自主研发、自主打造、自主生产，咋一看，感觉希望又来了，我们的民族工业、 科技 品牌又要继续大有作为了，但对这个行业有了解的一定知道有一道难以逾越的槛——《瓦森纳协定》。

二战结束以后的冷战时期，美国及其同盟为了防止苏方阵型发展高端武器，在美国提议下，包括美国、英国、日本、法国、澳大利亚在内的十七个国家于1949年11月在巴黎成立了一个叫做巴黎统筹委员会（简称巴统）的组织，目的是是限制成员国向 社会 主义国家出口战略物资和高技术，包括军事武器装备、尖端技术产品和稀有物资等三大类上万种产品。随着冷战的结束，1994年巴统组织也宣告解散。

1996年7月，以西方国家为主的33个国家在奥地利维也纳签署了《瓦森纳协定》（简称“瓦协”Wassenaar Arrangement），决定从11月1日起实施新的控制清单和信息交换规则。

“瓦协”包含两份控制清单：一份是军民两用商品和技术清单，涵盖了先进材料、材料处理、计算机、电子器件、传感与激光、导航与航空电子仪器、电信与信息安全、船舶与海事设备、推进系统等9大类；另一份是军品清单，涵盖了各类武器弹药、设备及作战平台等共22类，你能想到的所有高新 科技 ，全都包括在里面。

《瓦森纳协定》主要国家范围均在欧洲和美洲等西方发达国家区域，中国和其它部分发展中国家在这个被限制的国家名单之中。

虽然“瓦协”允许成员国在自愿的基础上对各自的技术出口实施控制，但实际上美国总是拿出全球安全战略考虑这种惯用伎俩，使各成员国在重要的技术出口决策上深受美国的影响，阻碍了高新技术向我国出口。

再来说说现在受制约的华为自主芯片，甚至其它潜在的企业，整个半导体领域，受限于《瓦森纳协议》，从芯片设计、生产等我们获取不到到国外的最新 科技 。晶圆代工，世界上最好的是台积电，台积电的生产工艺来源于荷兰阿斯麦公司（ASML）的光刻机，7nm量产，5nm正在研发，我国的中芯国际实际上也是使用的ASML的光刻机，现在只能生产28nm\14nm，由于受制于“瓦协”的原因，先进程度上差了几个代别。

中芯国际曾在2017年成功预定ASML公司1台制程为7nm的EUV光刻机订单。因为某大国的阻挠，导致这台光刻机直至今日都未交付给中芯国际。

既然光刻机这么重要，那么我们能不能制造呢？我们来看看ASML光刻机有10万个零件，来自全球供货商，根据之前ASML公开的供应商来看，前17大供应商主要集中在欧洲，美国，日本以及中国台湾，其中美国占了9家，台湾占了4家，日本占了3家，德国占了一家。而涉及光刻机最核心零部件的供应商当中，镜头和光源都是来源于欧美国家（镜头来源于德国蔡司，光源来源于美国的cymer）。

受到《瓦森纳协定》的限制，中芯国际等国内晶圆代工企业购买不到先进的光刻机，自主生产光刻机，零件部基本上不太可能买到最新的，零部件想要完全使用国产替代，涉及众多方面的技术积累，也将会是一个艰难的过程。相信通过时间的推移，通过技术人员的辛勤劳动，攻克技术难题，一定能使我们的 科技 走在世界的最前列！

你认为通过华为等 科技 公司的努力，我们的芯片自主生产能否实现弯道超车？

打破垄断！国产光刻胶巨头拿下关键订单

芯片制造是基础核心，通过制造完成一系列的芯片产品运用，并且实现各大 科技 创新的突破。可是生产一颗芯片需要涉及到上千家供应商，几千个步骤环节。一台芯片制造设备的背后，需要用上各国顶级的技术。

外界只知道芯片制造需要用上光刻机设备，殊不知光刻胶也是至关重要的。通过光刻胶对硅膜片进行曝光，保护衬底表面，推动芯片制造的顺利进行。

而光刻胶最高的品质是ArF，是生产成熟，高端工艺芯片的必备材料。好消息是，国产光刻胶巨头南大光电正处于这一品质水准。

根据南大光电的互动平台消息显示，南大光电的ArF产品已经拿到了小批量订单。通过自主研发的ArF光刻胶可以覆盖90nm至14nm，甚至7nm制程的高端芯片制造环节也能实现运用。

所以能够确认，国产光刻胶巨头拿下了关键订单，在14nm、7nm范围内都能实现覆盖。

南大光电的ArF光刻胶已经通过了客户认证，并进入到生产线，拿到订单的关键阶段。这意味着国产光刻胶正在打破海外垄断，有望实现崛起。

中国在光刻胶市场在参与者一直是比较低的，国内很多晶圆厂都需要从日本进口光刻胶。尤其是在ArF光刻胶领域，日本信越化学有非常大的话语权。

当全球面临芯片紧缺危机时，信越化学无法向国内提供足够的光刻胶，因此宣布断供，等产能恢复再进行供应。

如此一来，对国外半导体制造行业将带来不可避免的影响。虽然是因产能不足而导致断供，但也让我们意识到掌握自主供应能力的重要性。否则对方只要断供，不管什么原因都会面临卡脖子。

还有日本其余的JSR、富士电子材料等巨头也长期占据光刻胶市场，日本曾向韩国断供光刻胶出口，结果韩国束手无策。只因日本在光刻胶产业达到了垄断地位。

然而随着南大光电实现自研ArF光刻胶的客户认证，拿到小批量订单，已经在一定程度上打破垄断了。接下来南大光电只需要不断提升产能，占据国内外光刻胶市场的重要地位，提升ArF光刻胶可覆盖范围和实际运用，就有望助力国产光刻胶实现崛起。

ArF光刻胶可实现成熟工艺至高端工艺制程的运用，目前南大光电实现了55nm成熟制程的良率测试，后续将瞄准14nm，7nm乃至更高端工艺的研发突破。

光刻胶只是芯片制造的其中一大产业链，核心市场，高端工艺技术一直把控在日本手中。还有其余的光刻机、芯片制程等设备技术需要从国外进口。虽然芯片是国产企业生产的，但设备技术却是国外的。

然而，国产芯片供应链正在补足，不仅能够由国产企业参与制造芯片，其背后光刻胶，光刻机等材料，设备供应链都能通过中国企业自研的技术来实现满足。

南大光电的ArF光刻胶已经取得显著成就，上海微电子也在努力攻克28nm，相信要不了几年就能实现国产28nm的交付。

而且业内判断国产28nm，14nm会在今年，明年底之前量产。实现量产的背后，其实就是一家家国产企业在补足供应链。将来不只是补足供应链，还能实现各大供应链实力的崛起。

南大光电实现了ArF光刻胶工艺的巨大进步，并成功获得关键订单，实现小批量出售。不只是南大光电，上海微电子也会实现28nm光刻机的交付，中芯国际若获得EUV光刻机，也能参与高端7nm的生产。

可以看出，国产芯片供应链的一个个短板正在补足，众多技术节点都已经有了突破。期待国产半导体早日崛起，彻底打破国外垄断。

对此，你有什么看法呢？

国产最先进光刻机

第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。

而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。

第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。

2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。

根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。

请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”

也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。

22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”

有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破

中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。

华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

实用更是有很远的路要走。

大家放平心态。