中国现在能制造光刻机吗最新消息（中国能制造光刻机吗?）

中国有光刻机技术吗?

中国有了自己的光刻机，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。这是世界上第一台利用紫外光实现22nm分辨率的超分辨率光刻设备，为纳米光学加工提供了全新的解决方案。在光电所的努力下，我国的RD光刻机跳出了通过减小波长、增加数值孔径来提高分辨率的老路，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了全新的技术，也为超分辨率光刻设备提供了理论基础。扩展信息:利用超分辨率光刻设备，项目组为航天科技集团第八研究院、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西第二医院、重庆大学等单位制备了一系列纳米功能器件。包括大口径薄膜反射镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射装置、生化传感器芯片、超表面成像装置等。验证了超分辨光刻设备纳米功能器件加工能力，达到了实用化水平。

中国有荷兰光刻机吗

有。

目前荷兰终于解除禁令，卖给中国光刻机了。所以中国有荷兰光刻机。

但这个荷兰先进光刻机并不能代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的拯救者还得是中国自己。

原本外国加在中国身上的科技限制仿佛全都失效了一样。就在上周，有一个好消息传了过来，那就是一直以来处于保护主义不卖给中国光刻机的荷兰，同意我国以高价从全球光刻机巨头，ASML（阿斯麦）手中，采购14nm光刻机。

长久以来由于光刻机本身的特殊性，我国的网民甚至一度将其看作了半导体产业的救命稻草。但事实上，光刻机，只不过是芯片生产线上的一个零部件而已。或者说是一个生产环节。而一个芯片的生产，至少需要七大流程，分别是扩散，光刻，刻蚀，离子注入，薄膜生长，抛光以及金属化。

那么每个流程又需要多少设备呢？我们以中芯国际的12寸集成电路为例，造一个这玩意儿需要扩散设备22种，光刻机需要8种，刻蚀设备需要25种，离子注入设备需要13种，研磨抛光设备需要12种，清洗设备需要17种。

此外，还有涂胶设备，PVD设备，测试设备，检测设备，等等等等，林林总总少说得要数百个生产环节。一个光刻机，可不是万能药，能解决数百个生产环节的问题。

所以，单纯一个光刻机，肯定不可能实现中国芯片的全面飞跃。

但是，这并不意味着我是一个悲观主义者，外国人卖给中国光刻机这件事情的确

可以看作是中国芯片行业的重大转折，只不过最重要的点，并不是在光刻机上，而是在卖上面。

我国现在其实已经可以制造激光刻机了，主要制造厂商不是别家，是上海微电子。这家企业曾经还上过央视的节目，就是在将光刻机的制造。

其技术虽然是国内顶尖，但是在国际上就比较落后了，落后于荷兰的ASML两代水准。但是按照中国人的实力，别管落后多少，有就行，只要有了，很快就能追赶上国际主流水准。

而这次之所以欧美国家愿意把自家的光刻机卖给中国馆，其最主要的原因还是那个老生常谈的理由，那就是因为中国有了。在中国没有某项技术的时候，欧美国家肯定会横下一条心，用全力阻止中国购买或者是研发。

但是当我们有了这项技术的时候，那么对方就会知趣地解除掉所有关于我国的限制。同样是芯片产业，最先拿到欧美解除令的其实还真不是光刻机，而是刻蚀机。这项技术禁令的接触时间，是在2015年。

当时美国商务部下属的产业安全局是这么说的：中国已经从事实上获取了来自中国企业的、和美国产品数量、品质相当的刻蚀设备，继续实施国家安全出口管制措施已然毫无意义。

现如今中国已经可以完全可以自行生产芯片制造环节中需要的全部仪器，而且不会落后于国际领先水准太多，最多也就落后国际主流水准一代到两代。也有个别产品，比如中微半导体的蚀刻机已经达到了国际先进水准，还有一小部分水平停留在三代以前。

总的来说，中国的芯片行业，前途是光明的，但是这个光明前途，并非是荷兰光刻机带来的，相反，是因为我国芯片行业的未来光明，荷兰才愿意给我们光刻机。

未来世界最大的机遇是中国。随着超级市场的需求和教育水平的提高，中国将有越来越多的科技人才，芯片光刻技术顺理成章轻松解决。

国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。

我国芯片2022前半年自给率28纳米光刻机量产没有

近日，有传言称，全国产28纳米产线已经量产，为华为代工的芯片也已经流片成功, 这可能吗？

中芯国际有28纳米生产线，都基本都是美国或者其它国家的半导体生产设备，这肯定受制于人，所以，纯国产的28纳米生产线当然好，其中最重要的是光刻机。

按照上述传言的说法，那就是中国研发成功了28纳米光刻机。实际当然不是如此。中国光刻机技术最强的上海微电子，目前只研发出90纳米的光刻机，一直想研发制造28纳米芯片的光刻机，预计2021年会交货，但最起码2022年才能在芯片厂达成量产。即便如此，上海微电子的这个光刻机技术也不能完全“去美”化。

但为何会有中国研发成功28纳米光刻机的传言呢？是因为最近有另外一个传言，即中国最大电子企业集团公司之一、中国电科推出了28纳米离子注入机，名称像是针对28纳米生产的，但离子注入机和光刻机还不是一回事。

决定芯片良品率高低的因素有很多，最重要的光刻机，而光刻机的一个环节又是离子注入环节。而在离子注入环节中担任“总指挥”的是离子注入机。

离子注入机在芯片制造过程中主要负责对芯片进行电离子改造，按照预定方式改变材料的电性能。在光刻机对芯片进行曝光生产前，离子注入机对硅片进行不同元素掺杂，能够提高芯片的集成度、良品率和寿命。简单来说，离子注入机在芯片制程中起到了优化硅片、提高芯片性能的作用。

我国以前在离子注入机技术方面也很差，这就对光刻机的研发有很大制约，所以，搞定了28纳米离子注入机技术，对研发28纳米光刻机有利，但不能等同于光刻机。

一个光刻机最起码几万个零部件，据悉，离子注入机技术只占光刻机技术的3%左右。