华为为什么不研究光刻机技术了（华为有研究光刻机吗）

华为是否已经进入了研发光刻机阶段？

华为芯片都已经在生产了，光刻机肯定是有了。这不过这个光刻机跟你想象的可能并不同。

我们知道，两年前，美国开始制裁华为。

那会华为的海思麒麟芯片是在ARM架构公版的基础上自己设计的。华为只做芯片设计，芯片生产由别人代工。在被制裁之前，华为海思芯片设计出来的产品已经可以比肩第一线的其他手机芯片，像高通、苹果等，虽然可能有些差距，但也不算太远。

美国认为只要禁止华为使用设计芯片的EDA软件，把华为的芯片设计能力限制住了，就是蛇打七寸了。要知道设计芯片所用到的EDA软件是被美国垄断的，我们国内没有一款芯片设计软件能用来设计高端的手机芯片。

因此，美国第一轮制裁华为的主要方式就是禁止华为使用美国的芯片设计EDA软件，以及使用GMS。

然而效果并不大，因为华为海思已经设计出当时技术前沿的芯片，如麒麟9000等。华为拿已经设计完成的芯片给代工厂去生产，还可以维系很长一段时间。让美国一招致华为于死地的想法落空。

因此美国进行了后续几轮制裁，给华为加上了一道道紧箍咒。比如禁止台积电、中芯国际等芯片代工厂给华为生产芯片。

然后美国又发现华为通过大量采购芯片增加库存，以延长制裁下的生存时间。美国当然是难以接受的，他们经过研究，最后还是发现华为准备不足的地方。所谓不足的地方，就是一些关键的半导体小零件，比如电容、电阻、光感零件等等，世界上没有一家企业能全部种类生产的。华为在备货的时候，可能觉得比起手机CPU芯片的重要性，这些小零件觉得不重要，以后需要的话也容易采购，也就忽视了。没想到美国连这些小零件都不给华为，根本目的就是不然华为生存下来。

每一轮制裁都是事先对华为进行仔细研究分析后作出的决定。效果也明显，几轮制裁下来，华为凑不齐生产手机的所有配件，手机销量直线下跌，基本上把手机市场让出去了。

然而， 手机虽然在近几年为华为贡献了一半以上的利润，但华为的基本盘并不是在手机上 ，而是在于华为起家的业务上——通讯设备 ，2G、3G、4G、5G基站设备，以及交换机等等。

在华为做手机之前，华为已经连续几年是通讯设备行业的全世界第一。 而美国的几轮制裁之后，也影响到华为的通讯设备业务，要知道5G也是要用到芯片和其他半导体配件的。被制裁之下，华为海外的5G订单能否完成都成了问题。这也是后来国外客户撤销订单的原因之一。

如果是让华为在通讯设备和手机进行二选一，华为肯定选通讯设备的。毕竟华为是先有了通讯设备，后有手机业务的。这是一个先有鸡，还是先有蛋的选择题。因此华为先要拯救的、要保住的是通讯设备。

还有一个因素，通讯设备对芯片和配件的要求没有手机那么高。手机芯片工艺现在有7、5、3纳米的要求，而通讯设备并没有要求这么精细。关键是国内也没这方面的技术，目前国内28纳米及一下的所有技术都离不开美国的技术，因此华为不可能现在生产28纳米及以下的芯片。

网上看到华为在2020年7月份招聘光刻工艺工程师，就认为华为要做光刻机了。

然而这个光刻机可能跟想象的不同，并不是做手机芯片的，而是为了生产通讯设备的芯片。

好消息还是有的。第一轮制裁的EDA软件，华为自己设计了一个基于40纳米的芯片设计软件工具（EDA TOOL）。

目前，华为已经开始在武汉 生产的40纳米的芯片了。生产出来的芯片将用在华为的基站和其他通讯设备上。而整个生产线是去美国化的，全部实现国产化。

并且计划在不久后升级到28纳米工艺。我想，以华为的速度，40、28纳米工艺完成之后，14、10纳米并不会太远。10纳米已经可以勉强用在手机上了。只要给华为时间，一切都不是问题。

光刻机被称为半导体工业皇冠上的明珠，其技术要求之高可见一般。因此，华为显然不会自己研发制造光刻机，这里面涉及的技术是系统工程，绝对不是一家厂商可以解决的。

但是，华为在芯片领域有着自己的技术累积以及雄厚的资金实力，这些方面很大程度上可以帮助光刻机的研发，参与到整个光刻机研发体系中，进一步加快推进我国先进光刻机的研发。

1、华为无法独立研发制造光刻机： 光刻机是一个复杂的系统工程，其自身拥有多个核心子系统，每个系统可以说都需要全球顶尖的技术实现，比如双工件台、浸液系统、物镜系统、准分子激光光源等等。这些子系统以华为自有技术完全是搞不定的，没有对应领域的技术累积根本没法研发。

除了核心子系统的技术研发外，还需要将技术产业化，这就需要有对应的生成厂商来制造，而这块国内也是分工的，各子系统都有专业领域的厂商来生产。比如双工件台有华卓精科制造、浸液系统有启尔机电、光源系统有科益虹源等等。，

整个光刻机研发制造体系基本上就是科研机构（浙大、清华、长春光机等）专攻技术研发，然后再有专业厂商进行产业化。

由此可见光刻机产业的体系庞大而又专业，华为虽然是国内第一 科技 企业，但显然无法面面俱到，什么都自己干！

所以，华为无法自己研发光刻机！

华为投资光刻机相关领域： 虽然华为无法自己研发制造光刻机，但是其芯片领域累积的技术的确可以帮助整个光刻机的研发，也的确可以参与到光刻机的研发过程中来，以他们的实践经验来解决部分研发过程中的一些问题。

目前，有消息称华为旗下的投资公司哈勃投资入股了科益虹源，成为该企业的第七大股东，股权比例为4.6%。

科益虹源目前掌握有193nm ArF准分子激光技术，这也是光刻机的最核心三大子系统之一，对应的技术在领域内全球第三，国内第一。

显然，华为这是想通过自己的投资来直接推动光刻机的研发进度。光刻机这种核心技术研发和产业化需要大量资金投入，光建设生产工厂就需要很大的资金投入，早前科益虹源北京的工厂建设就花了5亿。华为资本的入股能解决厂商的资金问题，同时也能加快光刻机的产业化。

Lscssh 科技 官观点： 综合现有的信息来说，华为是不可能自己研发光刻机的，但是必定会想办法参与到这个过程中来，会以自己的形式来支持和推动我国光刻机的研发生产，入股科益虹源只是方式之一。

根据公开的消息，哈勃投资最近1~2年已经入股大量半导体产业线厂商，涉及半导体材料、装备，具体涵盖模拟芯片、碳化硅材料、功率芯片、人工智能芯片、车载通讯芯片等热门半导体产品线。

不要说你不爱国，我认为华为永远不会有生产光刻机和用来实际生产的能力，因为他只是一个组装厂

这就是卡住中国的那个所谓的光刻机，不错，是一种复杂而又混乱的高 科技 技术的产物。

先简单的了解一下光刻机的主要作用；光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机是芯片制造的关键设备，不光华为在研发，像SMEE、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电 科技 有限公司、无锡影速半导体 科技 有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果，这些公式只是在低端市场占比的，高端的就是中科院光电技术研究所的技术，现在光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片，它这个22纳米的属于单次曝光，还制造不了芯片。

虽说就这关键一步让有些小人之国卡住了技术难关，这种现状的主导原因，是中国不会有其自己研发的芯片，其实这个并不是什么坏事，反而会激励咱们国内的一些高 科技 公司在国家的大力支持下会更快的加速研发，华为就是其中一家，也是深受其害最惨的一家，有了前车之鉴肯定会加大力度研发光刻机的成型，相信中国的力量和技术，不会输给世界上任何一个国家的，说不定会让光刻机的技术更成熟更省劲，说不定这越复杂的东西反而会让我们有捷径可走，就不信了，你们搞的复杂，一个光刻机需要很多家公司的产品组合起来才能组成光刻机的整体进行使用，相信我们不会搞的这么复杂，也会让世界为之震惊，脑子是要动起来的，动起来了你们谁都跟不上，相信华为定不负众望，完成光刻机的研发，让中国靠又一项技术站在世界之巅，受制于列强国家的情况永远不会再发生。相信华为相信中国！

谢谢！！！

为什么华为前几年不进荷兰的光刻机了

前几年在美国封锁华为继续获得荷兰的光刻机和先进芯片之后，华为启动了光子芯片研究这步险棋，光子芯片将取代光刻机的作用，也就是说以后在生产芯片的时候不需要再使用光刻机，直接使用光子芯片直接取代光刻机作用。此次华为进行的光子芯片采用的是华为自己研制成功的数字信号处理器芯片，这种芯片是解决卡顿提升速度的重要优点，最主要原因是这种芯片不需要光刻机就可以制造出来。以前所有的芯片制造都离不开光刻机，而光刻机领域却一直被美国死死把握着，现在如果光子芯片能够研制成功，就再也不怕美国对于中国的层层技术封锁了，荷兰称光刻机封锁也就毫无意义。

难怪华为苦恼技术，比原子弹还稀有，全球掌握核心技术的只有7家

众所周知，现如今美国和我国的关系越来越紧张，美国总统特朗普接二连三公开宣布打压华为企业，禁止使用华为所有产品，也禁止向华为提供芯片支持，但凡全球运用到美国芯片技术的企业都不允许提供芯片给华为，这很大程度垄断了华为的芯片技术。芯片本身就是我国 科技 的一块短板，所以这对华为产品的开发有着严重的负面影响。虽说 科技 领域，华为的技术团队算得上是佼佼者，但唯独光刻机这点是难住我国 科技 专家了。等到人们真正了解到这个比原子弹还稀有的光刻机，其实也就可以理解，难怪华为苦恼技术了，毕竟全球掌握核心技术的，也只有7家。

目前我国半导体技术缺乏，还没有条件生产出高精准的光刻机。光刻机可以说是研发芯片的重要设备，所以这是华为目前最担忧的部分。很多人可能对光刻机的概念并不深，如果是 熟通 工业的人就大概知道是什么样子的存在了，可以说没有光刻机就无法生产芯片，光刻机又叫曝光机，模仿印刷照片那样，将精准的图形印刻到硅片上，精准要求非常高。芯片可以说是电子产品的心脏零件，所以华为没有光刻机技术是无法生产芯片的主要原因。

生产光刻机可比制造导弹复杂多了，之前还有人评价过，我国目前的水平生产出各种先进的导弹设备容易，但光刻机目前还真的不行。目前世界上只有少数厂家可以胜任该技术，所谓物以稀为贵，所以光刻机目前的市价非常高，通常情况下在3-5千万左右，而主要能够生产的厂家全球 只要 七家，其中以荷兰ASML和日本Nikon和Canon最为知名，而我国目前上海有一家SMEE公司也研发出光刻机产品，目前只在海外进行销售，将来如果可以真的被市场接受，相信到时候可以帮华为很大的忙。

光刻机之所以难以研发，首先第一个原因是 科技 水平要求必须达标，不仅是需要工业技术，包括 科技 也是不可或缺的，加上光刻机中很多零件都需要从外国采购，我国目前和美国的关系日益恶化，他们带着很多小弟国家打压我国，对我国进行市场封锁，所以我国要想同时具备这些零件是非常不容易的。另外就是光刻机的研发工作需要雄厚的资金背景，当然这点完全不能为难住我国，所以这不是主要阻碍我国发展的原因。

我国 科技 领域并不是没有做过努力，之前有专业团队本来是计划先从外国采购回来一台光刻机，然后按照其中的结构进行自我开发研究，这样一来可以节省很多力量，总不至于一头雾水，像个没头苍蝇只知道往里钻，这样效率非常慢，而且太浪费资金。我国便和荷兰方面进行了洽谈，本来荷兰已经同意了出口光刻机给我国，但在关键时候，美国突然出面制止，给荷兰方面施加压力，按照荷兰的实力当然不愿意得罪霸主国家，所以便一直没有同意将光刻机出口给我国。

经历了此次的芯片事件后，我国更加明白了国产化的重要性，要想彻底摆脱美国的束缚，我国必须自主研发出属于本土的芯片，这样一来美国就无法从这领域遏制我国发展。按照目前我国的 科技 实力，和人才的不断涌出，相信总有一天会实现芯片独立的目标。值得一提的是，此次美国颁发的限制令虽然给我国造成了很大程度的负面影响，但其实他们国内 科技 产业也面临着巨大损失，各大企业对政府的这项政策存在很大的不满情绪。