中国不能直接买光刻机吗（为什么中国买不了光刻机）

国家为什么不投资光刻机

主要是不能进口高端极紫外光euv光刻机，而中低端duv光刻机可以进口及自己生产。

最高端的光刻机现在不能进口了，主要是美国不让荷兰出口光刻机给中国。

最先造光刻机的是日本的尼康，就是很多专业摄影师用的相机机牌子，后来被美国把他们玩残了。

华为为什么不买光刻机

华为不买光刻机是因为量子芯片则可以通过量子之间的碰撞从而实现新的突破，不再需要光刻机也能完成，

如今华为在“堆叠芯片技术”上已经取得了一些成绩，华为可以利用1+1＞2的方式来生产出拥有市场竞争力的产品，而中芯国际也已经通过3D堆叠技术实现了高性能芯片的生产。另外，华为还一直在不断研发量子芯片，可以不用光刻机“造芯”，在量子芯片领域，一直都不被外媒所看好，但华为很早就已经进入了量子芯片领域研发；

毕竟现在的半导体芯片的发展都是需要遵守摩尔定律的，当发展到1nm极限以后，就无法再向下突破了，而量子芯片则可以通过量子之间的碰撞从而实现新的突破

光刻机是干什么用的：

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

中国有荷兰光刻机吗

有。

目前荷兰终于解除禁令，卖给中国光刻机了。所以中国有荷兰光刻机。

但这个荷兰先进光刻机并不能代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的拯救者还得是中国自己。

原本外国加在中国身上的科技限制仿佛全都失效了一样。就在上周，有一个好消息传了过来，那就是一直以来处于保护主义不卖给中国光刻机的荷兰，同意我国以高价从全球光刻机巨头，ASML（阿斯麦）手中，采购14nm光刻机。

长久以来由于光刻机本身的特殊性，我国的网民甚至一度将其看作了半导体产业的救命稻草。但事实上，光刻机，只不过是芯片生产线上的一个零部件而已。或者说是一个生产环节。而一个芯片的生产，至少需要七大流程，分别是扩散，光刻，刻蚀，离子注入，薄膜生长，抛光以及金属化。

那么每个流程又需要多少设备呢？我们以中芯国际的12寸集成电路为例，造一个这玩意儿需要扩散设备22种，光刻机需要8种，刻蚀设备需要25种，离子注入设备需要13种，研磨抛光设备需要12种，清洗设备需要17种。

此外，还有涂胶设备，PVD设备，测试设备，检测设备，等等等等，林林总总少说得要数百个生产环节。一个光刻机，可不是万能药，能解决数百个生产环节的问题。

所以，单纯一个光刻机，肯定不可能实现中国芯片的全面飞跃。

但是，这并不意味着我是一个悲观主义者，外国人卖给中国光刻机这件事情的确

可以看作是中国芯片行业的重大转折，只不过最重要的点，并不是在光刻机上，而是在卖上面。

我国现在其实已经可以制造激光刻机了，主要制造厂商不是别家，是上海微电子。这家企业曾经还上过央视的节目，就是在将光刻机的制造。

其技术虽然是国内顶尖，但是在国际上就比较落后了，落后于荷兰的ASML两代水准。但是按照中国人的实力，别管落后多少，有就行，只要有了，很快就能追赶上国际主流水准。

而这次之所以欧美国家愿意把自家的光刻机卖给中国馆，其最主要的原因还是那个老生常谈的理由，那就是因为中国有了。在中国没有某项技术的时候，欧美国家肯定会横下一条心，用全力阻止中国购买或者是研发。

但是当我们有了这项技术的时候，那么对方就会知趣地解除掉所有关于我国的限制。同样是芯片产业，最先拿到欧美解除令的其实还真不是光刻机，而是刻蚀机。这项技术禁令的接触时间，是在2015年。

当时美国商务部下属的产业安全局是这么说的：中国已经从事实上获取了来自中国企业的、和美国产品数量、品质相当的刻蚀设备，继续实施国家安全出口管制措施已然毫无意义。

现如今中国已经可以完全可以自行生产芯片制造环节中需要的全部仪器，而且不会落后于国际领先水准太多，最多也就落后国际主流水准一代到两代。也有个别产品，比如中微半导体的蚀刻机已经达到了国际先进水准，还有一小部分水平停留在三代以前。

总的来说，中国的芯片行业，前途是光明的，但是这个光明前途，并非是荷兰光刻机带来的，相反，是因为我国芯片行业的未来光明，荷兰才愿意给我们光刻机。

未来世界最大的机遇是中国。随着超级市场的需求和教育水平的提高，中国将有越来越多的科技人才，芯片光刻技术顺理成章轻松解决。

中国为何造不出光刻机？

我国造不出光刻机，有以下三个原因：

1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展。

2.事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持。

3.ASML的成功是因为其技术的局限性，更重要的是，它把一些企业当成了自己的股东，比如三星、台积电，英特尔等等。

所以在这种情况下，会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制，中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响，华为不得不受到限制。因此，只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机，才能打破这种束缚。

光刻机之前为什么不买

光刻机之前不买原因根据瓦森纳协议不会买先进的光刻机给中国的。

对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。

CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。工件台顾名思义就是放工件的平台，光刻工艺最主要的工件就是掩模和基片。

对准系统：

制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如Mycro NQ光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。

对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明。