光刻胶量产公司（光刻胶厂商）

国产光刻胶巨头正式宣布，实现KrF光刻胶量产，营收增长456.58%

随着人们生活的智能化，芯片的地位越来越重要，已成为手机、电脑、航天、通信、智能 汽车 等行业发展的基础，是世界各国今后在 科技 领域竞争取胜的关键。

受多种因素的影响，国内企业所使用的芯片大部分来自西方国家。 在我国企业未能危及西方国家企业行业话语权的时候，我们可以随意地购买到自己发展所需的任何芯片。但随着我国 科技 的不断崛起，国内企业不断实现反超，以美方为首的西方国家开始对我们实行芯片封锁。

2018年，美国以莫须有的罪名，将中兴列入黑名单，禁止其在七年内从美企手中购买核心元器件；2019年，美商务部突然将华为列入“实体清单”，禁止美企与之合作，且在一年之后，修改世界半导体行业规则，切断华为所有芯片来源，给华为的发展造成了极大的影响。

华为由于芯片不足，手机无法生产，被迫让出大部分市场份额。据第三方公布的数据显示， 华为2021年第一季度国内智能手机市场份额占比约为16％，海外市场份额占比约为4％，要知道，华为去年同期国内市场份额占比约为43％，海外市场份额占比约为18.3％。由此可见，美国的釜底抽“芯”，给华为的发展造成了多大的影响。

美国对华为等我国 科技 企业的所作所为，让我们明白了一个真理，在当今这个时代，企业要想摆脱被人鱼肉的命运，就必须掌握核心技术，实现技术独立！

2020年7月，国家正式下达铁令，要在2025年让国产芯片的自给率达到70％以上。为了实现这一伟大目标，国家做了很多重大布局，如成立国内首所芯片大学、打造世界级集成电路基地、出台免征税政策等，工信部也放出了“能给尽给，应给尽给”的狠话等。

所幸的是，在国家的大力之下，国内企业、科研机构、高校不辱使命，不但在EUV光刻机的研发上取得了重大突破，化学材料也取得了可喜可贺的成绩！

7月5日，国内光刻胶巨头晶瑞股份正式发布2021年半年度业绩报告，据报告数据显示，晶瑞股份上半年的净利润达到了14690万元，同比增长456.58%！

除此之外，晶瑞股份成功研制出KrF光刻胶，已进入客户测试阶段，不久就可实现大规模量产，填补国内技术空白！

关注集成电路行业发展的朋友都知道，光刻胶是制造芯片的核心化学材料，光刻胶质量的好坏，直接影响着芯片的质量和良品率，且光刻胶市场一直被日本企业垄断着，市场份额占比高达70%以上，而我国企业的市场份额占比不足1％！

在美国对我国企业实行芯片制裁的情况下，以日本的德行来看，我们很有必要实现光刻胶的国产化。

如今，晶瑞股份成功研制出KrF光刻胶，填补国内技术空白，又为国产芯片行业的发展添加了一道保障。

笔者坚信，随着国家支持半导体行业发展力度的加大，企业的坚持，国内科研人员的努力，我们一定能打破美方的芯片封锁，实现芯片的国产化！

国产光刻胶成功突破，粉碎日本垄断梦

近日，半导体领域迎来重磅消息，南大光电的ArF光刻胶取得突破，国产光刻胶终于来了！

南大光电光刻胶突破

早在5月30日，南大光电就已经发布公告称，公司自主研发的ArF光刻胶产品通过客户认证，具备55nm工艺要求。

7月2日，有报道称，南大光电的ArF光刻胶产品目前已经拿到了小批量订单。

这都在表明，国产光刻胶终于不再受制于人，而是实现国产化了。

芯片在制造过程中，除了硅这种主要材料之外，一些辅助材料也至关重要，其中有一种名为光刻胶的材料，在芯片制造过程中必不可少，然而，这个材料却长期被日本垄断，中国也在这方面一直被卡脖子。

而最近传出的一个消息，对我国半导体的发展非常不利，日本对中国供应的光刻胶出现了“断供”的现象。美国召开G7峰会后，日本宣布光刻胶断供中国，日本信越化学等光刻胶企业开始限制供应ArF光刻胶产品。

断供光刻胶，对半导体行业的人而言并不陌生，2019年日韩贸易冲突白热化，日本就断供了光刻胶，导致当时全球最大的芯片厂商三星陷入了困境之中。

虽然韩国积极向日本低头求和并开展自救，但芯片生产依然受到巨大影响，间接推动了2020年的芯片短缺。

巧妇难为无米之炊，没有了光刻胶，对于中国的晶圆厂而言是巨大的打击，芯片生产将被迫停止！

好在，光刻胶的国产化进程并不慢，日企断供短短半年时间，南大光电就已经将国产光刻胶投入市场中了。

南大光电，成立于2000年12月，是以南京大学国家863计划研究成果作为技术支持的中国高纯金属有机化合物MO源的产业化基地。

1986年，863计划启动，在高济宇院士的支持和指导下，学者孙祥祯牵头进行MO源的技术攻关。MO源是一种禁运物资，更是生产化合物半导体的源头材料，对我国国防安全、高 科技 民族工业有重要意义。

历经重重困难，孙祥祯带领的课题组终于研制出了纯度大于5.5N的多个品种的MO源，全面向国内近20家研究单位供货，缓解了我国对MO源的急求。

这项工艺不仅促进了国防工业的发展，更为国内化合物半导体材料的发展奠定了原始的基础。

孙祥祯退休后，带领年轻人创立了南大光电，注册资本3770万元，生产拥有自主知识产权的高纯金属有机化合物，是国内唯一实现MO源产业化的企业，公司的技术主要来源便是南京大学863计划中的项目。

公司主要产品有三甲基镓，三甲基铟，三甲基铝，二茂镁等十几种MO源，在产品的合成、纯化、分析、封装、储运及安全操作等方面已达到国际先进水平，产品远销日本、韩国、欧洲市场，并占有大陆70%的市场份额。

作为国内唯一将半导体光学原材料实现量产的企业，南大光电对于光刻胶可以说十分熟悉，也是最有可能突破光刻胶技术的企业。

中国半导体在崛起

光刻胶到底是做什么用的呢？

芯片生产过程中，需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上，而这种辅助的光学材料，就是光刻胶。

在光刻胶领域，材料主要分为四种，分别为g线、i线、KrF、ArF光刻胶，半导体工艺越高，光刻机的精度越高，照射的光线频率越高，波长越短。

光刻胶的分辨率会随着光线频率的改变而不断变化，基本的演进路线是：g线（436nm） i线（365nm） KrF（248nm） ArF（193nm） F2（157nm） EUV（

其中，ArF光刻胶的制造难度是最高的，这也是14nm/7nm芯片制造过程中不可或缺的原材料。

芯片的工艺也分等级，平板电脑、 汽车 芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。

这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EVU光刻机来生产，更需要高端的光刻胶作为辅助材料，以及大量的芯片原材料，才能成功生产出华为手机所需要的芯片。

光刻机被美国和荷兰的公司垄断，现在EVU光刻机对中国处于断供状态，中芯国际花了12亿购买的EVU光刻机至今仍未到货；

芯片原材料，虽然国内已有部分原材料实现自主生产，但是硅片、光掩模、电子特气、抛光材料、溅射靶材、光刻胶以及湿电子化学品这其中原材料完全依赖进口。

在全球光刻胶市场，日本东京应化，JSR，住友化学，信越化学等企业，掌握了全球半导体光刻胶市场的90%左右份额，几乎是垄断的状态。

方正证券的报告显示，中国大陆企业在全球光刻胶领域占有率不到13%，在半导体光刻胶领域更是不足5%，完全被日本卡了脖子！

但是，进入2021年以后，中国半导体行业国产化的趋势越来越强！

首先是光刻机领域，上海微电子已经实现28nm光刻机的量产，预计2022年可以交付，这款光刻机的性能与荷兰ASML的DVU光刻机相似，可以生产14nm制程工艺的芯片。

另外，美国虽然断供了最先进的EVU光刻机，但是制程工艺相对较低的DVU光刻机却没有断供，而荷兰ASML也明确表态过，EVU光刻机也可以用于7nm工艺芯片，英特尔的10nm工艺、台积电第一个7nm芯片，都是用DVU光刻机实现。

这意味着，2022年，现有的光刻机技术或许能够提前量产华为所需的7nm芯片，打破美国封锁。

而生产7nm工艺芯片所需要的ArF光刻胶，在7月2日就已经有国外企业向南大光电订购了，这意味着半导体光刻胶原材料也实现了自主化。

另外，南大光电，容大感光、上海新阳等国内企业，也在持续研发高端光刻胶，争取在现有技术上进一步突破，追上日本的光刻胶技术。

剩下的6种完全依赖进口的原材料，国内的企业肯定也已经发现了商机，正在朝着国产化转变；最关键的两项技术突破后，中国实现手机芯片国产化的日子也就不远了。

空谈误国、实干兴邦，中国的半导体行业，正在默默地奋力追赶，一如这次南大光电突然给市场来个惊喜一样，未来还将会看到更多的一鸣惊人的突破。

中国半导体，正在以惊人的速度崛起！

作者 | 金莱

做光刻胶的上市公司是哪一家?

做光刻胶的上市公司是：永太科技。

简介：

CF光刻胶有望首家国产化，将受益于下游液晶面板厂商为降低成本而主动进行的进口替代。永太科技公司2014年1月股东会通过了非公开发行股票预案，募集资金投向之一为1500吨平板显示彩色滤光膜材料产业化项目，现与下游客户进行合作能够更清晰把握市场需求，加快量产进度。CF光刻胶是主流生产CF工艺所需的主要原材料，目前生产被外资所垄断，公司量产后将受益于国内下游液晶面板厂商为降低成本而主动进行的进口替代。目前市场容量约1.5万吨，进口CF光刻胶为75美元/kg，毛利率高达70%，未来公司凭借价格优势将会逐渐占据更多市场。

原有业务经过多年客户导入，有望爆发。公司原有业务经过多年发展后技术更成熟，分析师预计单晶产品有望突破；农药中间体也在经历客户培育期后有望爆发。公司有机氟技术突出，形成了芳香族含氟产品的完整生产链，所生产医药中间体下游用于心血管类、糖尿病类、精神类和抗病毒类等药物。拟募投的30亿片出口制剂基地产品也多围绕公司技术强项，为原有业务向下游的拓展。

国内四大光刻胶生产商是哪里？

一、晶瑞电材：

公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技术企业，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

公司主要的优质客户资源包括有研半导体、晶澳科技、三安光电、宸鸿光电、信利、华润上华等。半导体客户是对超净高纯试剂要求最高的领域，公司拳头产品双氧水已进入国内知名半导体厂商的供应链考察体系，其中华虹宏力已进入上线评估，武汉新芯已进入验厂审核，中芯国际正在进行技术确认。

二、芯源微：

产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶／显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）。

下游客户覆盖国内主要LED芯片制造企业和集成电路制造后道先进封装企业，与包括台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、华灿光电等在内的多家优质客户保持着长期稳定的合作关系。

三、华懋科技：

公司通过投资的方式参股徐州博康，该公司是国内主要的产业化生产中高端光刻胶单体的企业，是国际上先进的EUV光刻胶单体发明者、生产者，单体产品覆盖全球90%以上客户群，下游客户包括Intel、JSR等。

公司的主要生产设备均来自日本、德国、瑞士、法国等先进机械制造国家，在OPW一次成型气囊产品和切割生产工序实现了智能化，在国内同行业处于先进水平，为提高生产效率、保持产品的质量稳定性提供了保障。

四、彤程新材：

公司全资子公司彤程电子受让科华微电子33.70%的股权，北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。

公司成功研发出使用多聚甲醛生产功能树脂技术，替代了传统的液醛工艺，使得含酚、含醛工艺废水减少70%，解决了橡胶用酚醛树脂生产过程中产生难以处理的含酚、含醛污水的问题。