中国光刻机还要多久(光刻机还要多久才能突破)

2022-12-03 18:41:28 基金 xialuotejs

芯片被“卡脖子”,我国的光刻机什么时候才能突破封锁,达到先进水平?

光刻机封锁是连技术带产品的封锁,而且是层层的封锁,目前为止一共有三道。我国在21世纪的前二十年里已经接连突破了两道封锁线,形成了前所未有的自主攻势,毫无疑问,我国在什么时候突破第三道封锁线,决定权就在我们国内光刻机企业的手里;国外在什么时候解除第三道封锁线,主动权也在我们国内光刻机企业的手里,而到了突破或者解除的那个时候,我国光刻机大概率只会是达到世界先进水平的,还没能达到世界领先水平,即不是世界顶级的光刻机,却能以前所未有的高速度,接着突破国外又设置的第四道封锁线,向世界顶级发起冲锋。

低端和中端光刻机的封锁已经被解除了。两道封锁线都已经荡然无存了,美国和荷兰像是自动解除、提前解除封锁的,近年来让A *** L连DUV中端光刻机都卖给我们国内企业那么多台了,是在我国光刻机企业还没有宣布国产中端光刻机下线消息的情况下。

看来,是由于知道我国光刻机企业已经突破了中端技术,并且已经转化为了中端产品,只是还停留在生产线上,待突破、能突破技术难关,而在下线后,对中端技术的封锁也就不解自除了。由此可知,我国光刻机企业是打破封锁的决定者,主要依靠的是自己对相关技术的突破,而美国和荷兰解除封锁则是被动的,不得不自动解除,而且只剩下供应产品这 1 个持续不了多长时间的选择了,相关技术的输入不再被需要。

我国光刻机企业基本突破高端光刻机技术并推出将很快下线的高端光刻机产品,会在未来的八年十年那时,在此之前的二三年里,美国和荷兰就会解除对高端光刻机产品的封锁。我国待突破的封锁线是第三道,是目前为止的最后一道,即对目前为止属于世界领先水平的高端光刻机技术和产品的封锁。

现在和在将来的一个时期内,我国企业买不来EUV光刻机产品,我国的光刻机企业更买不来EUV技术,这是由于美国和荷兰知道我国光刻机企业一时半会儿还不能突破相关的技术,技术转化为高端零部件直至整机的时间则是更长的,而现在不卖给EUV光刻机产品,就会让我国光刻机企业突破技术和作出产品的时间再长一些,

从而让我国需要EUV光刻机和需要高端代工、需要高端芯片的企业分别发展得慢一些、更慢一些;也是因为同时知道我国光刻机企业最终必定能够突破和作出高端光刻机的技术和产品,但心里已经习惯性地做好了在突破后、作出前再卖给产品的打算。美国和荷兰的等待是主动的,宁肯让A *** L挣不到我国的钱,虽然听说A *** L已经迫不及待了,而到时候让卖给产品却是被动的,无奈之下做出的唯一选择。

中国光刻机还要多久(光刻机还要多久才能突破) 第1张

蒋尚义需要多长时间才能研制出光刻机?

我认为就目前的科技水平,蒋尚义还是需要很久才会研制出光刻机的,至少需要五年的时间才可以成功。因为需要解决的东西还需要很多。

距离光刻机技术我们还差了什么,需要多长的时间呢?

因为华为被打压的事件,让很多企业也是开始注重技术的研发,而不再单纯的靠着交钱使用国外的技术,而之所以华为芯片断供就是因为我们国家自己无法制造光刻机,还是要依靠西方技术的,而我们现在掌握的芯片制造更先进的也只是14nm,和现在主流台积电、三星的5nm相比还差的太多。

并且芯片中最重要的光刻机我们还是需要向西方进口,目前,中国国产光刻机制造企业——上海微电子已经可以量产96纳米光刻机,并且成功研发出28纳米的光刻机技术,但是,从研发成功到生产制造出来,还是需要一些时间的,最快也要到2021年才能生产出来。

但是光刻机的制造并不是那么简单的,制造光刻机所需要的核心零部件都是被欧美所垄断,还实施技术封锁,高端的光刻机不卖给我们,零件也不卖,芯片领域也是美国重点打压我国的手段,华为的断供只是一个方面。

目前世界上更先进的光刻机企业荷兰的阿斯麦光刻机,阿斯麦公司背后有着英特尔、台积电、三星等股东的支持,并且加入了美国的EUV LLC组织,获得了光刻领域的核心技术支持,也是正因为有着美国的支持阿斯麦才能发展到今天的地位。

据A *** L公司公布的数据,一台A *** L高端极紫光刻机是由10万多个零部件组装而成,而这10万多个零部件是由全球成百上千家的企业供应。而主要的核心部件都是由欧美发达国家提供。在A *** L核心部件前17大供应商中,美国占了9家,台湾占了4家,日本占了3家,德国占了一家。如果美国说不,A *** L同样也造不出光刻机。

所以光刻的制造绝不是这么简单的,正如很多人说的那样,它当年我们制造 *** 还难,美国主要打压的是我们高端的光刻技术。中低端就是睁一只眼闭一只眼,上海微电子公司生产的光刻机就不在打压的范围内,可能是技术相差太多了不放在眼里。但是限制华为的芯片供货,禁止台积电为华为代工,还有一只阻止中芯国际的EUV光刻机 *** ,主要指针对现在主流的7nm、5nm工艺制程的高端芯片。

在光刻机领域我们确实是落后美国太多了,短时间想跟上谈何容易,是需要技术的积累的,而我们想要在这段路上超越并不现实,而我国的技术人员也是在研究其他的芯片生产技术,可能也是一种办法,或许能够实现变道超车。