中国研发光刻机需要多久（中国光刻机什么时候研制成功）

蒋尚义需要多长时间才能研制出光刻机？

我认为就目前的科技水平，蒋尚义还是需要很久才会研制出光刻机的，至少需要五年的时间才可以成功。因为需要解决的东西还需要很多。

华为最快需要多久才能造出光刻机？

光刻机没有那么容易研究出来，我估计华为是在明修栈道暗渡陈昌，很可能是在功关碳基芯片或是光芯片，如果成功了整个硅芯片行业都完蛋，美国再也不能在芯片上卡中国，我们还会反过来卡他们

多久才能造出光刻机，虽然最近华为对光刻机研发和生产进行了大规模的动作挖人，技术累积。但是不得不说的是，光刻机是一个综合性的领域，会需要比较多的高尖端的技术，同时发力才能够正常的去造出一台光刻机，就算是阿斯麦，自己生产一台光刻机，也是以年来计数的。他的技术成熟了，但是实际生产机器的时候，周七也是非常长久的。所以想通过自研来解决这个问题，可能短时间内并没有办法做到，更多的会是一种对未来的期许和技术的累积。

这个真不好说…以一公司之力对抗欧美，困难可想而知，但这条路也是被美国逼的，成功了，改变世界格局，失败了，那就丧失话语权，后果不好预料。看到这么多人对华为冷嘲热讽，都不知道这些人怎么想的。

首先要知道华为产业根本不涉及光刻机领域，所以从零开始进军光刻机行业基本不可能，最好的方案就是联合国内光刻机行业的一些龙头企业进行联合研发，以此来研发比较高端的光刻机。

就目前来讲高端光刻机领域完全被荷兰的ASML所垄断，7纳米euv光刻技术全球仅有阿斯麦尔掌握，所以Asml在光刻机领域可以说是领先全球。像日本尼康佳能等还有我国的上海微电子跟啊斯麦尔的差距还是很大。

其实之前的时候高端光刻机领域应该说是佳能尼康也有一席之位的，但是由于ASML特殊的商业模式导致全球高端光刻机市场都被ASML所占，这也直接导致佳能尼康退出了高端光刻机市场。

再来回到华为这边，华为的优势在于其5G技术以及芯片设计等，芯片设计和生产都是芯片制造中非常重要的一环，而芯片生产最重要的也就是光刻机，几个月前美国针对华为的制裁也是从芯片制造这个点扼制华为。所以说高端芯片制造还是我们的一大弱点，未来在高端产业的创新力我们还有很长的路要走。

你可以浏览华为公司官网上咨询一下，可能会得到准确的信息或答案。

我们都知道光刻机，它是用来制造半导体芯片的设备，没有光刻机，我们是无法制造出半导体芯片的。目前光刻机设备一直被国外荷兰的阿迈斯ASML公司所垄断，世界上最先进的半导体制程，基本上使用的都是阿迈斯的光刻机。在国内光刻机的发展还是比较缓慢的，特别是最先进的半导体制程，比如7纳米、4纳米，这些国内的光刻机是无法完成的。

华为是一家专注于自我生产、自我研发的企业，很多的芯片也开始慢慢进行自主设计和生产，特别是成立的海思半导体，已具备国际竞争的能力。受中美贸易战的影响，导致美国加大了对华为的限制力度，特别是在进口半导体芯片上。由于光 科技 的技术比较复杂，牵扯到的技术种类特别多，并不是一朝一夕就可以完成的，它和一个国家的工业基础是息息相关的，所以目前华为光刻机的进度还是比较缓慢的，如果说华为投入精力去搞的话，再加上国家的一些帮助，那么至少还需要十几年的时间才能研发出最先进的光刻机设备的。

所以对于华为研发光刻机设备，我们还是报以希望吧，希望未来十年之后能够有国产的光刻机出现，摆脱国外的限制，能够生产出我们属于自己的光刻机！加油吧，华为！

20年吧

距离光刻机技术我们还差了什么，需要多长的时间呢？

因为华为被打压的事件，让很多企业也是开始注重技术的研发，而不再单纯的靠着交钱使用国外的技术，而之所以华为芯片断供就是因为我们国家自己无法制造光刻机，还是要依靠西方技术的，而我们现在掌握的芯片制造最先进的也只是14nm，和现在主流台积电、三星的5nm相比还差的太多。

并且芯片中最重要的光刻机我们还是需要向西方进口，目前，中国国产光刻机制造企业——上海微电子已经可以量产96纳米光刻机，并且成功研发出28纳米的光刻机技术，但是，从研发成功到生产制造出来，还是需要一些时间的，最快也要到2021年才能生产出来。

但是光刻机的制造并不是那么简单的，制造光刻机所需要的核心零部件都是被欧美所垄断，还实施技术封锁，高端的光刻机不卖给我们，零件也不卖，芯片领域也是美国重点打压我国的手段，华为的断供只是一个方面。

目前世界上最先进的光刻机企业荷兰的阿斯麦光刻机，阿斯麦公司背后有着英特尔、台积电、三星等股东的支持，并且加入了美国的EUV LLC组织，获得了光刻领域的核心技术支持，也是正因为有着美国的支持阿斯麦才能发展到今天的地位。

据ASML公司公布的数据，一台ASML高端极紫光刻机是由10万多个零部件组装而成，而这10万多个零部件是由全球成百上千家的企业供应。而主要的核心部件都是由欧美发达国家提供。在ASML核心部件前17大供应商中，美国占了9家，台湾占了4家，日本占了3家，德国占了一家。如果美国说不，ASML同样也造不出光刻机。

所以光刻的制造绝不是这么简单的，正如很多人说的那样，它当年我们制造原子弹还难，美国主要打压的是我们高端的光刻技术。中低端就是睁一只眼闭一只眼，上海微电子公司生产的光刻机就不在打压的范围内，可能是技术相差太多了不放在眼里。但是限制华为的芯片供货，禁止台积电为华为代工，还有一只阻止中芯国际的EUV光刻机到货，主要指针对现在主流的7nm、5nm工艺制程的高端芯片。

在光刻机领域我们确实是落后美国太多了，短时间想跟上谈何容易，是需要技术的积累的，而我们想要在这段路上超越并不现实，而我国的技术人员也是在研究其他的芯片生产技术，可能也是一种办法，或许能够实现变道超车。