多少纳米光刻机对中国禁运（为什么中国光刻机停留在90纳米）

光刻机最先进的是多少纳米

是90纳米。

查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。

而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。

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光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。

一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。

技术封锁阻挡中国发展，中国9纳米光刻机，有何意义？

光刻机又被称之为曝光系统光刻系统，是当前人类文明的顶尖科技之一，它主要的用途就是用来进行芯片的制造，迄今为止任何一项顶级芯片都必须要有一个非常顶尖的光刻机才能够制造出来，而不得不承认的是，美国等发达国家在这方面一直以来都做得非常的出色，中国在这一领域可谓是一直以来都是受制于他人。

西方等发达国家所组成的技术壁垒，完美的封锁了中国在攻科技领域的研究，这种风俗也让中国在芯片领域一直以来都没有太大的发展，因此在很早之前，我国就大量的投入资金用于研发自己的芯片制造机，也就是光刻机。

光刻机的性能指标可以从多个方面来判断，比如说支持基片的尺寸范围，分辨率，对准精度以及曝光方式等方面，，而前不久根据媒体的报道，我国武汉光电中心的甘棕松团队在完全自主研发的光刻机上成功的实现了9纳米线段的光刻研究，可谓是不走寻常路的，突破了西方国家的技术壁垒封锁。

作为芯片制造领域的关键设备，顶尖的光刻机技术一直以来都保存在西方发达国家的手中，更为关键的是这些设备即便中国有钱也是难以买到的，因为所有的西方国家都深知，一旦中国掌握了这种光刻机必然会在芯片领域大力的发展，从而威胁长久以来，西方发达国家在芯片领域的市场。

制造光科技的专家团队表示传统的制造高科技的方式，完全无法实现高精度的光刻机，因此他们只能通过其他的方法来制造出属于我们中国自己的光刻机，虽然目前距离工业化生产还有很长的一段时间，但是这无疑是一个很好的开始，这也给西方国家敲响了警钟，单纯的技术封锁是无法阻挡中国发展的。

国产光刻机今年下线了，这是怎么回事？

据有关媒体报道位于上海的上海微电子装备有限公司将在今年内实现28纳米光刻机量产下线。 首先全球能做光刻机的也就只有荷兰的ASML、中国的上海微电子、日本的佳能和尼康，而且日本那两家早就江河日下。但是就算中国光刻机能排第2但是离第1的ASML还是差很多年。当然全球尖端技术并不是越多国家掌握越好。28纳米已经是比较先进的了，很多人认为半导体就只有晶体管尺寸和密度这一项，实际上半导体技术是棵参天大树里面包含了非常多的的子技术比如材料、汽车电子、封装等等，28纳米能做很多事，可以说除了顶级消费类电子产品基本都能用上了，就看半导体产业界怎么去用好。

其次上海微电子的供应链体系有多少是能确保完全自主的？ASML为什么被美国拿捏得死死的，就是关键零部件比如光源都是美国造的。如果上海微电子的供应链也是被卡脖子的，那这国产光刻机就打折扣了。

数据显示，全球芯片生产企业，多数都采用了ASML的光刻机，仅国内厂商，就购买超700台ASML的光刻机，而这些光刻机用于生产7nm以上制程的芯片。另外，ASML还推出了更先进的EUV光刻机，其可以生产7nm以下制程的芯片，也是全球目前唯一一款能够生产制造7nm以下制程芯片的光刻机。遗憾的是，EUV光刻机虽然先进，但产能不足，大量的EUV光刻机被台积电、三星买走，其他厂商要想购买、安装EUV光刻机，需要排队等待。另外，由于美国的缘故，ASML的EUV光刻机也不能自由出货，国内厂商订单了一台EUV光刻机，至今ASML都没有发货。

而国产的28纳米光刻机完全属于中国制造，不仅出货将不会受到限制，国内的所有厂商都能购买使用，而且光刻机是我们中国制造，使用时我们也会更放心。如今，即将下线的28纳米光刻机，以及已实现量产和领先的国产蚀刻机等设备，终于具备了组建纯国产芯片生产线的能力，同时也有可能量产出能够满足国内大部分厂商需求的芯片。

中国光刻机现在多少纳米

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。

这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。