新一代光刻机（新光刻机技术）

阿斯麦公司制造新一代光刻机，这一代光刻机与之前的相比如何？

新一代光刻机相比之前的设备肯定各方面都会更先进，关于新一代EUV光刻机的性能参数，阿斯麦公司并未透露太多，阿斯麦公司制造新一代光刻机肯定会在制造的良率、工艺水平等方面都会有很大提升和进步，因为性能和各方面都更优秀，所以价格方面也很惊人，据说这架新一代光刻机售价高达4亿美元，目前这架新一代光刻机还在制造当中，预计会在2025年交付客户开始使用，这对于阿斯麦公司来说是一次重大的突破，同时对制造业也会引起不小的轰动。

阿斯麦公司制造新一代光刻机的消息流出后引起了很多人的热议，光刻机在复杂的半导体供应链和工艺环节中起着这关重要的作用，也有人说一台光刻机就有可能会决定一家半导体企业的存亡，以往阿斯麦公司和台积电一直保持很好的合作关系，台积电也一直都是该公司的先进光刻机的优先供货客户，这次 阿斯麦公司自己制造新一代光刻机就是希望可以让公司有进步的发展，所以技术和性能方面都会有很大的突破。

大家也很好奇这次新一代的光刻机相比之前的会有怎样的差距，有关新一代光刻机的性能参数公司并未透露，毕竟还处于制造阶段，各方面数据还没有稳定，这也关于公司的机密，我们虽然不知道具体会有哪些方面的进步和提高，但是既然作为新一代的设备，就一定会有很多的改善和提高。

这台新一代光刻机的制造对整个行业来说都会带来巨大的冲击，各行各业都在关注此事，不知道这次阿斯麦公司会给我们带来怎样的惊喜，也有人表示虽然这台归光刻机拥有超高的性能，但是价格过于昂贵也难以让人接受。

光刻机的极限在哪里？

2020年3月28日，中国计算机学会做了一个 CCF YOCSEF 技术论坛：量子计算机离我们还有多远？的主题，主题上 张辉（合肥本源量子计算 科技 有限责任公司副总裁，中国科学技术大学博士）做主题演讲时候有提到，3nm是经典计算机的工艺极限，就是因为量子的问题。本源量子是国内中科院旗下的做量子计算机方面的公司。

之前中芯国际副总曾经在喜马拉雅的音频节目中回答过这一提问，他说1nm的光刻机工艺并不是技术上难以逾越的门槛。只是目前采用投影或浸入式的技术还难以做到1nm工艺，但其实世界上已有直写技术可以做到1nm了，只是采用直写技术的硅片没有商用价值，只能 *** 掩膜版用，所以说3nm更不是极限了，那么光刻机的极限在哪里呢？接着往下看。

光刻机的极限

其实光刻机极限已经快到了，因为硅这种材料的极限在1纳米左右，如果想要超越1nm,那就得换材料了，但是目前地球上已经发现的材料中，没有比硅更适合的了，所以末来十年都很难超越1nm工艺，除非科学家能发现一种新材料，当然，这种可能很小。

超越1nm很难，那么达到1nm呢？目前要想达到1nm，目前当芯片内部线宽窄到3nm，电路中用于导电的铜线之间的间距太小，就会发生短路，所以说达到1nm都很难，只能寄希望于量子技术的突破了。

荷兰A *** L（阿斯麦）公司的现状

在EUV光刻机方面，荷兰A *** L（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，A *** L公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。

根据A *** L之前的报告，预计2020年将会交付35台EUV光刻机，到2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。目前A *** L出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。

荷兰A *** L（阿斯麦）公司的极限

与之前的光刻机相比，A *** L新一代光刻机的分辨率将会提升70%左右，可以进一步提升光刻机的精度，毕竟A *** L之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。不过新一代EUV光刻机还有点早，至少到2022年才能出货，大规模出货要到2024年甚至2025年，届时台积电、三星等公司就可以考虑3nm以下的制程工艺了，所以说到2022年光刻机的精度有望达到3nm,要想达到1nm，估计要到2030年了。

总结

总结来说1nm应该是光刻机精度的极限，预计要10年左右才能达到这一目标，我是小熵，你有什么看法？快到下方评论区留言吧！欢迎关注，持续为您答疑解惑。

在紫外光谱。不同的材料有区别。

1nm光刻机意味着什么

目前荷兰A *** L公司正在研发制造全新一代EUV光刻机，其被命名为NA EUV光刻机，而NA更是高达0.55，相比现有的NA值为0.33的EUV光刻机而言，有明显的提升。全新一代光刻机的NA值提升，意味着光刻机精度更高，可以生产制造更小面积的芯片，甚至可达1nm。