中国首款光刻机上市公司名单（光刻机上市公司一览表）

中国大陆哪几家企业生产光刻机？

成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景：

（1）光刻机用于大学研发、实验室设备。

（2）工厂用于做空空导弹跟踪器、发光二极管、传感器、手机芯片、霍尔元件

A、发光二极管：用于在十字路口红绿灯、公交车、汽车灯用在每到一站的显示。

B、传感器：用于高铁到站传输信号准确定位。

C、手机芯片：用在手机卡上，还有手机显示屏面。

D、霍尔元件：用于冰箱开灯亮、关灯熄灭。

E、卫星：卫星上面用于卫星角度的调整。

主要合作院校和单位有：

中国科学院半导体研究所、中国工程物理研究所

清华大学、北京大学、北京理工大学、复旦大学

南开大学、福州大学、浙江大学、武汉大学

安徽大学、华东师范大学、东北大学、厦门理工学院

中国核动研究设计院、重庆技术职工学院、成都理工大学

贵州大学、昆明理工大学、华南师范大学、青岛航天半导体研究所

常州银河电器有限公司、浙江正邦电子股份有限公司、江苏一光仪器有限公司

江苏车晨电子科技有限公司、上海航天控制技术研究所、上海空间研究中心

光刻机唯一上市公司

光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

拓展资料：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

光刻机龙头股有哪些股票

光刻机龙头股票有：

一，芯源微688037：光刻机龙头。

2021年第一季度公司营收同比增长1229.72%至1.13亿元。

二，华特气体688268：光刻机龙头。

2021年第一季度公司营收同比增长55.11%至2.93亿元，净利润同比增长67.99%至2776万。

三，雅克科技002409：光刻机龙头。

2021年第一季度公司营收同比增长102.36%至8.88亿元，净利润同比增长4.73%至1.22亿。2019年净利润2.53亿元，同比增90.64%；公司并购华飞电子、江苏先科、成都科美特并设立雅克福瑞整合电子特气等半导体材料行业资源，打造综合性半导体材料平台。

四、年夜族激光： 2020年6月17日公司在互动平台称：公司在研光刻机项目辨别率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的运用，本年有望实现小批量贩卖。

五、奥普光电： 公司出产的CaF2晶体质料未用于光刻机物镜上。

六、成功细密： 规划光刻机工业化项目规划投资8.59亿元，项目建设期2年，项目完成后，公司将形成年产光刻机成套设备10台（套）出产能力。

七、英唐智控： 20年10月，完成对日本前锋微技能的股权交割，前锋微技能自有的出产装备中包括有日本产的光刻机装备，其光刻机主要用于摹拟芯片的制造。 数据仅供参考，不组成投资建议，据此操纵，危害自担，股市有危害，投资需谨严。

光刻机概念股其他的还有： 晶瑞股份、捷捷微电、容大感光、同益股份、广信材料、强力新材、飞凯材料等。

拓展资料：

一、成为龙头股的条件：

1、龙头股必须从涨停板开始，涨停板是多空双方最准确的攻击信号，不能涨停的个股，不可能做龙头.龙头股

2、龙头股必须是在某个基本面上具有垄断地位。

3、龙头股流通市要适中，大市值股票和小盘股都不可能充当龙头。11月起动股流通市值大都在5亿左右。

4、龙头股必须同时满足日KDJ，周KDJ，月KDJ同时低价金叉。

5、龙头股通常在大盘下跌末期端，市场恐慌时，逆市涨停，提前见底，或者先于大盘启动，并且经受大盘一轮下跌考验。再如12月2日出现的新龙头太原刚玉，它符合刚讲的龙头战法，一是从涨停开始，且筹码稳定，二是低价即3.91元，三是流通市值起动才4.5亿，周二才6.4亿，从底部起涨，炒到翻倍也不过10亿，也就是说不到2－3亿的私募资金或游资就可以炒作。四是该股日周月KDJ同时金叉，说明该股主力有备而来。五是该股在大盘恐慌末端，逆市涨停，此时大盘还在下跌，但并没有影响此股涨停。通过以上介绍可以看出龙头的起涨过程，也说明下跌并不可怕，可怕的是大盘下跌，没有龙头出现。

二、识别注意事项：

1、热点切换中识别：龙头会在大盘下跌末端逆市涨停。提前大盘见底。如双飞，双浪的转换。龙头一般出现三日以上的攻击性放量。

2、放量性质识别：放量有攻击性和补仓性两种类型。单日放量不可能充当龙头。

3、量价配合。均线良好是识别龙头股的关键。

4、龙头有两种：一是热点切换进去的新龙头。二是老龙头调整到位后，二次上涨。

生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司：ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

ABM总部位于美国硅谷，亚太销售服务、维修中心设于中国香港，公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能（Canon），是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团，从1937年成立以来，经过多年不懈的努力，佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

参考资料来源：百度百科-ABM

参考资料来源：百度百科-佳能

参考资料来源：百度百科-尼康

参考资料来源：百度百科-上海微电子装备有限公司

中国光刻机生产厂家

掩模对准器的制造商是ASML。自1984年以来，ASML的光刻解决方案一直是半导体行业的创新领导者，并在如此小的规模内实现了巨大的飞跃。结合硬件和软件，它提供了在硅上大规模生产图案的整体方法。在全球16个国家和地区，有60家ASML公司的主要产品是光刻机，这是生产大规模集成电路的核心设备。在国际同类产品中占有90%的市场份额，14nm工艺以下市场份额100%。扩展信息:ASML为半导体制造商提供掩模对准器和相关服务。TWINSCAN系列是世界上最精确、最多产、应用最广泛的高端光刻模型。世界上大多数半导体制造商从ASML购买TWINSCAN型号，如英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。

光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机？

光刻机是芯片制造的关键设备，我国投入研发的公司有微电子装备(集团)股份，长春光机所，中国科学院等都在研发，合肥芯硕半导体有限公司，先腾光电科技有限公司，先腾光电科技有限公司， 合肥芯硕半导体有限公司都有研发以及制造。而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机。我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能（中高端光刻机市场已基本没落）ASML（中高端市场近乎垄断）比差距很大。

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸。

上海微电子装备(集团)股份有限光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2018年出货大概在50-60台之间。营业收入未公布，政府是有大量补贴的。处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。

合肥芯硕半导体有限公司成立与2006年4月,是国内首家半导体直写光刻设备制造商。该公司自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。

无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。无锡影速成立与2015年1月,影速公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。影速公司已成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备、国际首台双台面高速激光直接成像连线设备(LDI),已经实现最高200nm的量产。

先腾光电成立于2013年4月,已经实现最高200nm的量产,在2014国际半导体设备及材料展览会上,先腾光电亮出了完全自主知识产权的LED光刻机生产技术,震惊四座。