光刻机最小纳米是多少（光刻机最多多少纳米）

如果用日本尼康光刻机制造芯片最小能到几纳米?

15纳米。

在上世纪九十年代，尼康和佳能才是全球光刻机霸主，当时根本就没有ASML什么事，只是后来包括尼康和佳能都陷入了157纳米光刻机技术困境当中。

而他们又不转变思路，结果荷兰ASML通过采取台积电建议的浸入式技术，实现了技术上的突破，然后开始把尼康和佳能远远甩在身后，从2011年之后，ASML就几乎垄断了全球所有的高端光刻机市场。

我国光刻机研发

我国也有不少企业和科研院所在研发光刻机，而且我国在2007年就实现了90纳米光刻机的技术突破，但直到现在我国真正量产的光刻机也一直停留在90nm，虽然前段时间上海微电子宣布已经成功研发出28纳米光刻机，但要真正量产也需要等到2021年底或者2022年。

但是从28纳米到7纳米还有很长的路要走，在这过程当中，首先要突破14nm才可以，因此我国什么时候能够研发出7纳米光刻机还是一个未知数。

光刻机最先进的是多少纳米

是90纳米。

查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。

而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。

相关介绍：

光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。

一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。

第一代光刻机是多少纳米的

笫一代光刻机是436纳米。一切光刻机的核心零件是围绕光源来的，根据光源的改进，光刻机一共可以分为5代，分别是最早的436纳米光刻机，然后第二代是365纳米波长，第三代是248纳米，第四代是193纳米波长，第五代是13.5纳米波长的EUV光刻机。

中国的光刻机最小能做到96纳米，如果用国产的光刻机做骁龙865处理器，做出来的产品体积有多大？

做不出来。发热问题无法解决。要想做出来，必须重新设计。这也是为什么台积电不代工华为7纳米芯片后，无法找中芯国际换成14纳米的道理，必须重新设计。

佳能光刻机多少纳米?

佳能光刻机22纳米，光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片；第二是类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。

国内目前做光刻机的主要有上海微电子装备有限公司、中子科技集团公司第四十五研究所国电、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技、无锡影速半导体科技。其中，上海微电子装备有限公司已经量产的是90纳米，这是在中国最领先的技术。其国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项“的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核。对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶；45纳米是一个技术台阶；22纳米是一个技术台阶……90 纳米的技术升级到65纳米不难，但是45纳米要比65纳米难多了。路要一步一步走，中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2020年出22纳米的。目前主流的是45纳米，而32纳米和28纳米的都需要深紫外光刻机上面改进升级。