国产光刻机投产了吗最新消息新闻（中国光刻机最新消息）

国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。

78亿！终于要有光刻机了？被美国打压2年，为何突然开绿灯？

导读：78亿！终于要有光刻机了？被美国打压2年，为何突然开绿灯？

自从华为公司被打压以后，就让我们认识到了国产 科技 企业在半导体芯片领域发展的不足，虽然说华为海思半导体经过不断的努力，成功地跻身为全球排名前10的芯片设计企业行列之中，但是我们在芯片的生产领域却没有太大的突破，因为缺乏先进的光刻机，所以我们始终都无法生产出先进的半导体芯片，所以在台积电不给华为代工芯片以后，华为的海思麒麟芯片就成为了绝唱！

在目前的碳基芯片领域，光刻机无疑是至关重要的，虽然说一块芯片看起来只有指甲盖大小，但是在芯片的内部却集成了数亿根晶体管，想要完成这样的工作，也只有最先进的光刻机才能做到；而在光刻机领域，全球最先进的光刻机几乎都被ASML公司一家所垄断，像台积电、三星的先进EUV光刻机都是来自于ASML公司，因为产量有限，所以ASML公司的光刻机也一直都是供不应求的，有钱也不一定能买到！

此前，国内的 科技 企业就曾多次向ASML表达了想要购买光刻机的意愿，但是由于种种原因的限制，我们却始终都没能如愿；近日，国内的芯片巨头企业中芯国际传来了好消息；据悉中芯国际已经和ASML公司签订了一份高达12亿美元（约合78亿元）的采购合同，按照合同内容中芯国际将可以从ASML公司手中购买到光刻机。这也就意味着，我们终于要有光刻机了，这对于国产芯片产业的发展来说，无疑具有极大的促进作用！

要知道，此前在光刻机领域，国内的 科技 企业一直都被美国打压，现在被打压了2年多的时间，为何却突然会被开绿灯呢？实际上，这一次中芯国际和ASML公司所达成的采购合同，仅仅只能采购14nm以上的光刻机，而最先进的生产7nm工艺以下的EUV光刻机则并不在采购行列之中，所以中芯国际虽然有了ASML的光刻机，但是却无法拥有最先进的光刻机，所以中芯国际依然是被“卡着脖子”在发展！

想要生产7nm以下的芯片，那么就必须要有ASML公司的EUV光刻机才行，尽管说一台EUV光刻机的售价高达1.2亿美元，但是这一光刻机的产能依然有限，而且在种种条件的限制下，我们就算是给钱也无法买到；不过，对于中芯国际来说，就算是没有EUV光刻机，能卖到ASML公司生产的DUV光刻机也是不错的，这一光刻机可以生产14nm工艺，乃至28nm工艺的芯片，而这些芯片才是目前芯片市场上最紧缺的产品，有了光刻机以后，中芯国际就能扩大自己的产能了！

值得一提的是，目前全球的芯片供应都十分的紧缺，除了手机领域以外，还有 汽车 、通信等领域都出现了芯片短缺的情况，而这一切都是因为当初打压华为所造成的连锁反应，所以这时候开绿灯，也是为了暂时解决全球半导体芯片市场上所出现的短缺危机，看似是好心，但其实只是为了自己的利益而做出的改变而已，中国芯片想要在全球芯片市场上立足，我们只有研发出属于我们自己的高端光刻机和芯片才行，接下来，国产 科技 企业并不能有丝毫的松懈，只有努力的研发，国产芯片才有出路，不知道对此你是怎么看的呢？

国产14nm光刻机什么时候量产

2023年量产。

6月22日，中国电子信息产业发展研究所所长温晓军在接受采访时表示，国产14nm芯片明年年底可以的实现量产，国产芯片已经迎来了最好的时刻。

14nm生产线在半导体行业中非常关键，数据显示，14nm及以上制程可以满足目前70%半导体制造工艺要求。值得一提的是，我国自研台式电脑CPU就是基于14nm工艺。而且，相关部门为中国半导体产业制定的发展目标是2025年实现70%芯片自给自足。

光刻机特点

严格地说并没有所谓的几纳米几纳米光刻机，这种说法一般来说只是代表这种光刻机可以实现几纳米工艺。其实中高端光刻机主要分2种，DUV光刻机和EUV光刻机。

那么光源作为光刻机的核心部件之一，随着人类科技的不断进步，其波长也在不断缩小。从436nm、365nm的近紫外光，到248nm、193nm的深紫外光，也就是DUV光刻机使用的光源，发展到现在，最先进的EUV光刻机采用的已经是13.5nm极紫外光。