我国最先进的光刻机是几纳米芯片的（我国最先进的光刻机是几纳米芯片的）

光刻机最先进的是多少纳米

光刻机最先进的是90纳米。纳米科技现在已经包括纳米生物学、纳米电子学、纳米材料学、纳米机械学、纳米化学等学科。从包括微电子等在内的微米科技到纳米科技，人类正越来越向微观世界深入，人们认识、改造微观世界的水平提高到前所未有的高度。

光刻机的概括

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机，中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。

中国光刻机处于什么水平

1.现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术？

官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm。然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造。而且3nm工艺制作的芯片即将上市。不过根据相关信息，预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付。虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机差距还很大，虽然起步晚，但是中国人的不断努力还是会弯道超车的。

第二，国内公司能否自主采购EUV光刻机来解决这种情况？

答案是否定的，要知道华为缺芯是美国的阻碍，国内公司更不可能轻易买到高端光刻机自己制造芯。虽然ASML也是通过采购世界各地的优秀零件来补上最终的光刻机，但是没有任何零件可以避开美国的核心技术，所以美国不会为了控制中国的发展而轻易让中国购买光刻机。

做一个优秀的光刻机，要做很多艰苦的工作，不仅要达到美国光源和德国镜头的高水平，还要有很多精密的仪器。光刻机任重道远！这些精密仪器的背后，也需要更多的人才、研究技术、时间投入和技术积累，也需要大量的资金。我相信中国会克服这个困难，不再受其他国家的限制。

国产最先进光刻机

第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。

而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。

第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。

2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。

根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。

请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”

也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。

22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”

有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破

中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。

华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

实用更是有很远的路要走。

大家放平心态。

中国目前光刻机处于怎样的水平？你知道吗？

前些年华为缺芯事件闹得沸沸扬扬。如今华为自主研发芯片让国人为之自豪，但是又有一个问题难道不可以自己制造芯片吗？我们要知道制造芯片需要使用光刻机。但是纵观全球芯片公司，有这个技术和设备的只有三星公司了。它既可以自主研发又可以制造芯片，基本上垄断了行业芯片。但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后。

一、如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作？

查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。

二、国内公司可以自主购买EUV光刻机来解决这一现状吗？

答案是否定的。要知道华为缺芯事件就是美国从中作梗，更不可能让国内公司轻易购买到高端光刻机来自主造芯。尽管ASML公司也是通过在全球各地采购相应精良的零部件来组成最终的光刻机，但是任何零部件都无法避开美国的核心技术，所以美国为了达到控制中国发展，不会让中国轻而易举买到光刻机。

要制作出一台精良的光刻机，要做很多的攻坚，不仅要达到美国光源、德国镜头的高层面，还有许许多多的精密仪器。中国光刻机任重道远！在这些精密仪器的背后，同样也需要更多的人才、研究技术、时间投入、技术的积累同样也需要大量的资金。相信中国也会克服这一困难，从此不再受他国制约。

比亚迪开始大力研发7纳米芯片和光刻机，能不能超越老牌半导体企业？

在产业链的整合上面，比亚迪的能力在国内数一数二，在汽车领域，比亚迪也是有着自家的看门技术，但是在手机以及半导体芯片制造上面，比亚迪暂时只能摸到门面，还没有入门。

在半导体制造上面，并不是投入钱和时间就可以完成的事情，最起码要符合两个特点：

1、有技术人员进行领导发展。

2、和全球产业链达成合作。

目前主流的半导体制造公司，就是台积电、三星、中芯国际这三家。最开始的时候，台积电的工艺领先其他两家，后来三星挖到了一名台积电的主心骨工程师，直接在制程工艺上面反超了台积电。

紧接着台积电以技术专利作为借口，把三星半导体跟这名工程师一起告上了国际法庭。最终台积电胜诉，把这名工程师逼出了三星。最后，这位工程师加入了中芯国际，并一直工作到现在。

说到这里，很多人应该都知道这位工程师是谁了，他就是梁孟松。在他加入中芯的时候，中芯的工艺技术非常落后，世界主流水平已经是10nm了，而中芯国际还停留在良品率不高的28nm。梁孟松带领着团队，再现了当年三星越级发展技术的画面。

经过3年发展，中芯国际的14nm成功量产，良品率高达95%以上。紧接着中芯国际就开始进攻7nm以及5nm工艺节点，对于28nm这种老旧工艺，梁孟松也在逐渐开始发展去美化。

想要发展先进制程工艺，绕不开的设备就是高精度EUV光刻机。荷兰asml公司出品的光刻机，是目前全球最先进的仪器。能达到7nm及以下工艺的设备，现在只有asml公司的设备可以达到。

我国最先进的光刻机，就是上海微电子的90nm光刻机，虽然有消息说上微有28nm的设备，但是现在并没有正式公开发布，暂时不算。

很多人会认为，asml公司的光刻机是自主生产的产品。其实这样的想法是错误的，光刻机的零部件高达几十万个，需要从全球数十个国家进行采购，少一个零部件，这台设备就无法生产出来。

这也就来到了刚才提到的第二个特点，需要跟全球产业链达成合作。

暂且不说比亚迪能不能研发出7nm芯片，单说光刻机这个设备，如果比亚迪打算生产光刻机，必须跟其他国家进行产业链合作，想要靠自家公司的能力研发出设备，这个可能性为0。

至于能不能超越老牌半导体企业这个问题，我想大家心里面应该有答案了。不是说我国的企业不能超过欧美国家，而是我们应该根据市场发展看待问题。如果不考虑市场因素，只是在纸上谈兵，那么对我们的技术发展没有任何推动作用，甚至还会出现倒退的情况。