中国制造出了光刻机吗最新消息（中国生产出光刻机了吗）

国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。

中国有荷兰光刻机吗

有。

目前荷兰终于解除禁令，卖给中国光刻机了。所以中国有荷兰光刻机。

但这个荷兰先进光刻机并不能代表中国芯片行业的腾飞。中国芯片行业真正的拯救者还得是中国自己。

原本外国加在中国身上的科技限制仿佛全都失效了一样。就在上周，有一个好消息传了过来，那就是一直以来处于保护主义不卖给中国光刻机的荷兰，同意我国以高价从全球光刻机巨头，ASML（阿斯麦）手中，采购14nm光刻机。

长久以来由于光刻机本身的特殊性，我国的网民甚至一度将其看作了半导体产业的救命稻草。但事实上，光刻机，只不过是芯片生产线上的一个零部件而已。或者说是一个生产环节。而一个芯片的生产，至少需要七大流程，分别是扩散，光刻，刻蚀，离子注入，薄膜生长，抛光以及金属化。

那么每个流程又需要多少设备呢？我们以中芯国际的12寸集成电路为例，造一个这玩意儿需要扩散设备22种，光刻机需要8种，刻蚀设备需要25种，离子注入设备需要13种，研磨抛光设备需要12种，清洗设备需要17种。

此外，还有涂胶设备，PVD设备，测试设备，检测设备，等等等等，林林总总少说得要数百个生产环节。一个光刻机，可不是万能药，能解决数百个生产环节的问题。

所以，单纯一个光刻机，肯定不可能实现中国芯片的全面飞跃。

但是，这并不意味着我是一个悲观主义者，外国人卖给中国光刻机这件事情的确

可以看作是中国芯片行业的重大转折，只不过最重要的点，并不是在光刻机上，而是在卖上面。

我国现在其实已经可以制造激光刻机了，主要制造厂商不是别家，是上海微电子。这家企业曾经还上过央视的节目，就是在将光刻机的制造。

其技术虽然是国内顶尖，但是在国际上就比较落后了，落后于荷兰的ASML两代水准。但是按照中国人的实力，别管落后多少，有就行，只要有了，很快就能追赶上国际主流水准。

而这次之所以欧美国家愿意把自家的光刻机卖给中国馆，其最主要的原因还是那个老生常谈的理由，那就是因为中国有了。在中国没有某项技术的时候，欧美国家肯定会横下一条心，用全力阻止中国购买或者是研发。

但是当我们有了这项技术的时候，那么对方就会知趣地解除掉所有关于我国的限制。同样是芯片产业，最先拿到欧美解除令的其实还真不是光刻机，而是刻蚀机。这项技术禁令的接触时间，是在2015年。

当时美国商务部下属的产业安全局是这么说的：中国已经从事实上获取了来自中国企业的、和美国产品数量、品质相当的刻蚀设备，继续实施国家安全出口管制措施已然毫无意义。

现如今中国已经可以完全可以自行生产芯片制造环节中需要的全部仪器，而且不会落后于国际领先水准太多，最多也就落后国际主流水准一代到两代。也有个别产品，比如中微半导体的蚀刻机已经达到了国际先进水准，还有一小部分水平停留在三代以前。

总的来说，中国的芯片行业，前途是光明的，但是这个光明前途，并非是荷兰光刻机带来的，相反，是因为我国芯片行业的未来光明，荷兰才愿意给我们光刻机。

未来世界最大的机遇是中国。随着超级市场的需求和教育水平的提高，中国将有越来越多的科技人才，芯片光刻技术顺理成章轻松解决。

中国光刻机现在达到了哪个水平？

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。

这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

中国为何造不出光刻机？

我国造不出光刻机，有以下三个原因：

1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展。

2.事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持。

3.ASML的成功是因为其技术的局限性，更重要的是，它把一些企业当成了自己的股东，比如三星、台积电，英特尔等等。

所以在这种情况下，会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制，中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响，华为不得不受到限制。因此，只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机，才能打破这种束缚。

我国芯片2022前半年自给率28纳米光刻机量产没有

近日，有传言称，全国产28纳米产线已经量产，为华为代工的芯片也已经流片成功, 这可能吗？

中芯国际有28纳米生产线，都基本都是美国或者其它国家的半导体生产设备，这肯定受制于人，所以，纯国产的28纳米生产线当然好，其中最重要的是光刻机。

按照上述传言的说法，那就是中国研发成功了28纳米光刻机。实际当然不是如此。中国光刻机技术最强的上海微电子，目前只研发出90纳米的光刻机，一直想研发制造28纳米芯片的光刻机，预计2021年会交货，但最起码2022年才能在芯片厂达成量产。即便如此，上海微电子的这个光刻机技术也不能完全“去美”化。

但为何会有中国研发成功28纳米光刻机的传言呢？是因为最近有另外一个传言，即中国最大电子企业集团公司之一、中国电科推出了28纳米离子注入机，名称像是针对28纳米生产的，但离子注入机和光刻机还不是一回事。

决定芯片良品率高低的因素有很多，最重要的光刻机，而光刻机的一个环节又是离子注入环节。而在离子注入环节中担任“总指挥”的是离子注入机。

离子注入机在芯片制造过程中主要负责对芯片进行电离子改造，按照预定方式改变材料的电性能。在光刻机对芯片进行曝光生产前，离子注入机对硅片进行不同元素掺杂，能够提高芯片的集成度、良品率和寿命。简单来说，离子注入机在芯片制程中起到了优化硅片、提高芯片性能的作用。

我国以前在离子注入机技术方面也很差，这就对光刻机的研发有很大制约，所以，搞定了28纳米离子注入机技术，对研发28纳米光刻机有利，但不能等同于光刻机。

一个光刻机最起码几万个零部件，据悉，离子注入机技术只占光刻机技术的3%左右。