顶级的光刻机叫啥名（最高级的光刻机）

世界上能做出高端光刻机的国家有哪些

能制造高端光刻机的只有荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

拓展资料：

光刻机种类

一、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

1、软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；

2、硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；

3、真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）

二、接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。

三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。

光刻机——百度百科

顶级的euv光刻机价格极高，它的市场却为何还供不应求？

随着经济的飞速腾飞，国内的科技公司对于芯片的的需求激增，人们开始了解到光刻机这种设备。人们或许会奇怪为什么一些公司能够设计出高档的芯片，例如华为的麒麟芯片的性能不输高通的骁龙芯片，却无法自己生产而需要代工呢。这里涉及到一种“卡脖子”技术——光刻机。下面讨论一下光刻机市场供不应求的原因。

EUV光刻又叫做极紫外光刻，生产技术难度大，经济成本高，而高性能的芯片由需要使用EUV光刻机进行生产。有数据显示显示，荷兰ASML公司2019年仅仅出货26太光刻机，一台EUV光刻机的价格大概在1.2亿美元左右。高性能的光刻机在运输、安装调试方面会花许多时间，尽管市场供不应求，但是为了保证生产效果，运输安装、调试运行所花费的时间、经济成本大，不能做到效果手机电脑等消费品那样大量生产。

另一个原因是EUV光刻机的生产用到了许多美国的专利，因此一台光刻机能够成功出售还需要获得美国的授权许可。而总所周知，我国在这一类高性能的技术方面一直被美国封锁。国内目前还无法生产商用的EUV光刻机，对于引进外国的先进的光刻机需求迫切，奈何美国在这一方面的限制使得国内市场对EUV光刻机供不应求。

鉴于我国实际的EUV生产状态和国外技术的封锁，可想而知，EUV光刻机在我国市场是供不应求的。EUV光刻机可以看作是一种限制他国的技术手段，长期引进也不是一条长远的道路，为了国家在这方面高端技术有一席之地，科研人员仍然需要努力奋斗，在外国的封锁中走出属于自己的一条路。

为什么全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机？

外星人类将最先进的光刻机投放到荷兰。

首先，ASML在光刻机领域是无可争议的世界霸主。

光刻机是芯片生产中必不可少的设备

ASML是一家荷兰公司，又叫阿斯麦，是一家专门生产光刻机的企业。所谓的光刻机，是生产芯片的最为关键的设备之一。具体光刻机是用来干什么的，可以参考我之前写的一篇答案： 《生产芯片用的蚀刻机和光刻机有什么区别？》 地址是：

神一样的ASML的光刻机

这家公司可以说是世界上最顶尖的光刻机生产商，而且即便是世界第二也已经被远远甩在了后面， 现在其最先进的EUV（极紫外光）光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片了，单台光刻机的售价已经超过了一亿美元，而且还不是现货。 相比之下，中国完全自主生产的光刻机只有可怜的90nm制程，差了一大截。

那么为什么荷兰这么小的一个国家可以拥有这么顶级的企业呢？

原因一：ASML出身名门。

ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦独立出来的一个公司，背后肯定有相关的人员、经济上的资助。

原因二：不拘一格降人才。

与我们想象中不同，ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手，尼康和佳能是完全不同的。正是因为这样的政策，使得他们能够在整个设备的不同部位同时获得世界上最先进的技术，而他们自身也可以腾出手来在部件整合和客户需求上做文章，从而在日新月异的芯片制造行业取得竞争优势。

而这种高新技术行业马太效应特别明显，一旦有一点差距，很快就会迅速拉大。

原因三：对核心技术的掌握。

最先进的EUV光刻技术，ASML拥有世界第二的专利申请量，说明即便是广泛地外包零件，他们依然对核心技术有着不懈的追求。

蔡司也是ASML的合作伙伴，负责光学模组的生产

原因四：独特的合作模式。

ASML有一个非常奇特的规定， 那就是只有投资ASML，才能够获得优先供货权 ，意思就是要求他自己的客户要先投资自己才行。这样奇特的合作模式使得ASML获得了大量的资金，包括英特尔、三星、台积电、海力士都在ASML中有相当可观的股份， 可以说大半个半导体行业都是ASML一家的合作伙伴，形成了庞大的利益共同体 ——就算是技术研发出现了失误，英特尔挤挤牙膏就好了，并不会威胁到ASML的市场占有率。

而且不仅仅是来自合作伙伴的资金支持，更多的还有技术支持。比如说刚刚提到了ASML在EUV光刻技术上拥有世界第二的专利申请量，而世界第一是德国的蔡司公司，第三是韩国的海力士公司，而这两家公司都是ASML的合作伙伴。

中国相关企业可以学习什么？

我觉得可以从以下几个角度来借鉴ASML成功的经验：

1）充分利用国内的资金和政策支持。 比如说阿里已经投身AI芯片研发、华为海思则在芯片领域已经耕耘许久——而中兴事件也给了他们一个教训，不可对外国的支持太过于依赖，而这种不安全感、对技术的追求和海量的研发资金和人才储备，都是可以充分利用的资源；

2）分散进攻，不搞大包大揽。 一些零件可以外包，甚至于可以暂时使用国外的零件、日后再寻求替代，总之就是不把复杂的光刻机的全部压力放在一家企业上，而是利用整个国家、甚至于全世界的资源。

3）不忘初心，始终坚持自主研发和进口替代。 一定要坚持掌握核心技术，有些东西虽然暂时可以有国外产品应用，但是人无远虑必有近忧，不能放弃对自主研发和核心技术的不懈追求。

最后，还是希望中国在芯片行业可以获得发展，日后不必再受到国外的制约。

Asml垄断了全球的高端光刻机市场，他是从飞利浦公司分拆出来的，保留了曾经大部分飞利浦的人员，本身技术实力雄厚，而且对于合作企业aaml要求对方入股，所以也保证了和合作伙伴是利益共同体。

2017年全球光刻机总出货294台，其中ASML共就出货198台，占全球68%的市场份额，2017年asml卖出的单台EUV机价格超过1亿欧元

1、飞利浦的研发实力

ASML最开始是飞利浦光刻设备研发小组。1971年开始研发，在1973年就研发了新型光刻设备，最后因为亏损太厉害，成本太高，分拆出来了，但所有的团队都保留了下来。

2、巨大的研发费用

Asml每年将营业收入15%用于研发，2017年研发费用高达97亿人民币，所以越投入技术越强，而竞争对手尼康和佳能都跟不上发展了，

3、专注于技术

Aaml处于荷兰，几乎没有上下游产业，所以90号以上的零件向外采购，这样就可以把精力全部用于研发了。而且核心的研发技术根本不外传。

4，打造上下游利益共同体

Asml要求所有合作伙伴必须投资它，否则就不合作，所以其他厂商比如因特尔，三星，台积电都有asml股份，也可以分工，这样asml发展越好，其他厂商也有分成，这样就绑在了一条船上。

5、积极收购技术公司

ASML为了拓展技术实力，收购了很多企业，比如在2007年以2.7亿美元收购了美国计算光刻领跑者Brion，2012年以26亿美元收购了准分子激光源提供商Cymer，2016年以1000亿收购了HMI。

你认为我国芯片产业能发展起来呢？

光刻机最先进的是多少纳米

是90纳米。

查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。

而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。

相关介绍：

光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。

一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。

国产最先进光刻机

第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。

而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。

第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。

2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。

但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。

第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。

根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。

请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”

也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。

22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”

有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破

中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。

华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

实用更是有很远的路要走。

大家放平心态。