研制光刻机的专业（光刻机研究方向）

光刻机涉及到大学哪些专业知识

光刻机涉及到的知识有：光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

扩展资料：

光刻机的分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

3、自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

光刻机是什么专业学的

光刻机涉及的知识有光学，机械加工，电路等，属于电子技术类专业的范畴。

研究光刻机得学什么专业

光刻机涉及到的知识有光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。可学电子技术类专业，比如微电子与固体电子专业。 扩展资料 光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的`精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

研究光刻机应该学什么专业?

研究光刻机应该学光电，或者（应用）物理（传统光学方向）都可以。

光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位。

先进光刻机荷兰ASML一家独大，在中国的研发也比较少（上海和深圳有，但偏重软件方向），大部分都是装机修机现场服务技术支持。你要做研发，先考上至少985的本科，再读硕士，这是最起码的。

如果你要去美国或荷兰的ASML工资，如果是非计算机专业，最好去欧美读到博士。如果你只是硕士，最好读计算机方向。因为在光刻机的研发中，对软件的学历门槛是最低的（牛逼的学CS的都去互联网了，来你硬件公司干啥）。

相关资料

我是集成电路专业的，大家都知道光刻机用于芯片制造，可是大学里面集成电路专业一般来说有两个方向，一个是电路方向，一个是器件方向。

这两个方向都会学集成电路工艺基础课，但是都是宏观介绍一下，涉及到光刻部分也就给你看看图片。电路方向的话是不会见到真光刻机的，器件方向会着重教你如何去使用光刻机制作微电子器件，但是也不会教你去设计光刻机。