国产芯片光刻机出路（中国造芯片不用光刻机）

中国加快芯片国产化，芯片未来的发展前景会如何？

中国加快了芯片的国产化，未来芯片的发展应该是多种技术并行，现在制造高精度的芯片主要就是通过光刻机，显然未来光刻机也是非常非常重要的一环，但是应该会有其他的技术出现不单纯指望这个光刻机，因为两纳米之后的路到底怎么走，现在是有争议的。

我们都知道现在芯片的精度是这个数字越小它的精度越高，从。8纳米到5那里到现在沟通他们所研究的这个两纳米的芯片，但是到了两大米之后又怎么办呢？因为到两纳米的程度，对于这个光刻机的精度要求就已经相当相当之高了，如果还要更高的精度的话，就不能指望这个东西了，如果说真的还是要指望这种光刻机类型原理的机器，那就必须做出更大的技术突破，所以两个纳米之后的路到底怎么走啊？哪个厂商现在都没有非常好的方法都是在尝试着突破，因为两纳米的芯片现在这个成功率还不能保证呢。

国产的光刻机最近下线了，但是国产的光刻机精度很低，28纳米，这个精度如果说提高个三四倍的话可能有用，现在短期内还是没用，我们现在对于光刻机的期待，如果说是理性的考虑，现实打算的话，我们在未来的2~3年之内能够逐渐达到日常的低端市场所使用的芯片就可以了，5年能够达到终端市场，10年能够达到世界前列，就算是相当不错的，因为光刻机的制造不是那么简单的，不能把它和造原子弹放在一块儿去比较，两者不是一个东西。

未来芯片的制造肯定是通过多个渠道去研究去考虑的，但是归根结底都是为了在一个固定的区域内刻画出更多有效运转的，当然现在这个要求就已经很高很高了，但是未来想要做更多的突破，就凭现在的这个光刻机的技术显然是不够的，我们国内其实还不用考虑那么多，现在国内考虑两纳米之后的路怎么走，只能说是一个美好的前瞻，因为现在国内的这个芯片制造技术在保证成功率控制成本的情况下，七纳米的都做不到，更何况是更高精度的呢，这个还有很远很远的路。

如果说未来的5~10年，我们的芯片真的能够实现大规模的国产化了，那个时候我们的电子产品逐渐站起来就有很大可能了，就不需要在不断的依赖外国了，那个时候这些电子产品的价格就能够进一步下压。不止是手机电脑，甚至是智能化的汽车都是差不多的，因为芯片的精度高了，不光能应用在手机上，其他的产品也都可以。

芯片制造专用的前道国产光刻机现在进展情况如何了？是不是连28NM都没有突破？

最近半导体领域之中传来了两个好消息，首先就是华为旗下的哈勃投资了北京科益虹源光电技术公司，并且成为了这家企业的第七大股东。北京科益虹源主营业务是光源系统，而光源系统就是制造光刻机的核心技术之一。同时，北京科益虹源也是全球第三家193纳米ARF准备分子激光器企业。

第二个好消息是，国产光刻机巨头上海微电子目前已经表示，新一代的光刻机会在今年年底或者是明年年初实现量产，而在光源系统之中，采用了与阿斯麦DUV光刻机一样的光源技术，波长突破了193纳米。这就意味着国产代工企业将在今年或者是明年年底就能够实现7纳米工艺的代工水平，并且是在没有阿斯麦光刻机的情况之下。

可以说光刻机领域之中接连传来这两个好消息，对于我们而言，对于国产芯片未来的发展而言，起到了一定推促的促进作用，毕竟一直以来在光刻机领域之中，荷兰的阿斯麦占据绝对的垄断地位，尤其是在极紫外光刻机领域之中，更是处于绝对垄断的地位。

而国内在芯片上的短板就是因为缺少极紫外光刻机，所以导致中国企业没有办法生产出7纳米以及5纳米这样先进制程工艺的芯片。2018年，中芯国际曾经从阿斯麦买订购过一台euv光刻机，但是说到瓦森纳协定的影响，阿斯麦至今都没有出货这台EUV光刻机

后面中兴以及华为的限制使得国内科技企业自主研发的意识被彻底唤醒，于是在这样的情况之下，所有的国内厂商将希望全部中寄托在了中国光刻机企业身上。为了解决这一难题，华为在第一时间就宣布扎根半导体领域，另外，中科院也宣布入局光刻机，并且将光刻机变成科研清单。

好在伴随着时间的推移，如今一个又一个的好消息传来。关于光刻机的两个好消息传来，意味着中国心再次迎来了春天。而这对于阿斯麦来讲当然不是什么好事情。

北大教授曾经说过这样一句话，如果中国依旧拿不到阿斯麦的光刻机，那么在三年之后，中国就将会掌握这项技术，并且一旦中国掌握了这项技术，那么其生产的产本成本一定比任何一个国家都要便宜。

北大教授的这一番话，可以说对于阿斯麦来讲，更是一个重磅炸弹，失去中国市场的阿斯买强会面临地位的威胁，如今日本的尼康以及佳能正在不断崛起，挑战这阿斯麦所在的地位，如果中国真的掌握了光刻机技术，那么阿斯麦想要在进入国内市场基本上没有可能，更不要提凭借中国市场稳固其地位的梦想了。

光刻机的问题解决了，那么芯片的问题自然也就不是问题了。早在芯片禁令实施之初，张召忠就曾经公开表示，再过三年，美国的芯片将会无人购买，因为到那个时候，中国的芯片将会到处都是。

如今看起来，张召忠果然没有说错，相信过不了多久，我们在芯片领域也一定会迎来一定的突破，中国芯片在未来一定会拥有更好的发展，而对中国企业实行打压的硅谷，在将来也一定会尝到失去中国市场的苦果。

国产光刻机真实现状

中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm，意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后，高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展，手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机，从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视，无一不离开集成电路的发展，也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来，体积越来越小，性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展，芯片越来越小，集成电路越来越多，可以把终端做得小而精致。2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年，国家启动了“02”重大科技项目，持续攻关。经过十余年的研发，我国基本掌握了高端光刻机的集成技术，部分掌握了核心部件的制造技术，成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。

国产芯片究竟能不能绕开美国技术的封锁弯道超车呢？

我认为在短期之内是不能够绕开美国的技术封锁，要想实现弯道超车是非常困难。

芯片是非常重要的科技产品，是当今科技含量最高的科技产品。但是对于我国而言，在芯片领域方面已经受到了欧美国家的限制。毕竟我国芯片发展时间晚于欧美国家，而且在相关技术领域受到了严格制裁。所以14纳米以下的芯片，我国目前还无法真正实行量产。但是芯片在我们的生活当中越来越重要，无论是通信技术又或者是汽车制造领域方面，对于芯片的需求量是非常庞大的。

国产芯片究竟能不能绕开美国技术的封锁？

至于国产芯片能不能绕开美国方面的技术封锁，我的答案是完全不可能的。因为在芯片领域方面的研究，只有一条路可走，那就是攻克光刻机的难度。很可惜的是我国在光刻机方面的研制工作，在长时间之内陷入了困境。毕竟技术方面没有达到相应的标准，相当规格的工艺制造以及光刻机直径标准，都没有达到14纳米以下。

实现弯道超车比较困难。

我国一直来所擅长的便是实现弯道超车，在其他领域方面，我们都已经实现了超越。但是唯独芯片领域方面，一直以来都是我们的短板。尤其是美国出台了所谓的芯片法案之后，直接导致我国在芯片领域方面的研究和生产受到了严重打击。在短时间之内，芯片领域要想取得有效进步，还是比较困难的。

我们也不能够就此放弃。

但是对于芯片领域方面的研究，我们也不能够就此放弃。因为芯片在我们的生活当中的重要性，想必大家都能够感受得出。日常所使用的手机，以及其他精密的仪器设备，缺少了芯片，那么所有设备都不能够正常运转。

我国光刻机发展怎么样了？光刻机在我国为何如此重要？

我国的光刻机处于世界的先进水平，但没有达到顶尖水平：

我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机，可以满足日常的射频芯片，蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准。但是相较于芬兰等欧美国家的光刻机芯片，已经达到了个位数的纳米。想要在此基础之上超越欧美国家，进入光刻机的顶尖水平，还需要数10年的时间研究和发展，这就好像在一根头发丝上的1/10000处，雕刻一栋楼房的难度是差不多的。

光刻机在我国之所以如此重要，是因为它在芯片的研究和生产方面占有非常重要的地位。我国的大部分芯片研究都离不开光刻机的技术支持，例如手机芯片，一些重工业行业，机器的芯片，还有很多高新科技产业的核心技术，都需要用光刻机来研发芯片，没有了光刻机，我国的芯片研究就会陷入停滞的发展状态，因此我国的大多数光刻机主要依赖于进口，只有少数的光刻机用在一些不太重要的科技岗位上。

只要光刻机达到顶尖水平，我国的芯片研究就会得到一个质的突破。例如汽车芯片的研究，在我国除了自身的发展以外，大多数也依靠进口来完成汽车的整体生产过程，当光刻机的技术达到了顶尖水平以后，我国将不会再依赖外国的汽车芯片，拥有自主研发的中国芯片，安装在中国生产的汽车上。一方面会增加我国在汽车生产上边的独立性，另一方面会减少对国外光刻机的依赖造成他国对我国的贸易制裁影响。

总而言之，光刻机的技术非常重要，但难度也非常大，有专家预计在未来的十年到20年中，我国的光刻机技术可能会得到质的突破。