光刻机上市公司第一股（a股光刻机唯一上市公司）

生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司：ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

ABM总部位于美国硅谷，亚太销售服务、维修中心设于中国香港，公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能（Canon），是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团，从1937年成立以来，经过多年不懈的努力，佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司，似乎在这个领域不被许多普通人知道，许多人只知道尼康的相机做的好，却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

参考资料来源：百度百科-ABM

参考资料来源：百度百科-佳能

参考资料来源：百度百科-尼康

参考资料来源：百度百科-上海微电子装备有限公司

光刻机龙头股有哪些股票

光刻机龙头股票有：

一，芯源微688037：光刻机龙头。

2021年第一季度公司营收同比增长1229.72%至1.13亿元。

二，华特气体688268：光刻机龙头。

2021年第一季度公司营收同比增长55.11%至2.93亿元，净利润同比增长67.99%至2776万。

三，雅克科技002409：光刻机龙头。

2021年第一季度公司营收同比增长102.36%至8.88亿元，净利润同比增长4.73%至1.22亿。2019年净利润2.53亿元，同比增90.64%；公司并购华飞电子、江苏先科、成都科美特并设立雅克福瑞整合电子特气等半导体材料行业资源，打造综合性半导体材料平台。

四、年夜族激光： 2020年6月17日公司在互动平台称：公司在研光刻机项目辨别率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的运用，本年有望实现小批量贩卖。

五、奥普光电： 公司出产的CaF2晶体质料未用于光刻机物镜上。

六、成功细密： 规划光刻机工业化项目规划投资8.59亿元，项目建设期2年，项目完成后，公司将形成年产光刻机成套设备10台（套）出产能力。

七、英唐智控： 20年10月，完成对日本前锋微技能的股权交割，前锋微技能自有的出产装备中包括有日本产的光刻机装备，其光刻机主要用于摹拟芯片的制造。 数据仅供参考，不组成投资建议，据此操纵，危害自担，股市有危害，投资需谨严。

光刻机概念股其他的还有： 晶瑞股份、捷捷微电、容大感光、同益股份、广信材料、强力新材、飞凯材料等。

拓展资料：

一、成为龙头股的条件：

1、龙头股必须从涨停板开始，涨停板是多空双方最准确的攻击信号，不能涨停的个股，不可能做龙头.龙头股

2、龙头股必须是在某个基本面上具有垄断地位。

3、龙头股流通市要适中，大市值股票和小盘股都不可能充当龙头。11月起动股流通市值大都在5亿左右。

4、龙头股必须同时满足日KDJ，周KDJ，月KDJ同时低价金叉。

5、龙头股通常在大盘下跌末期端，市场恐慌时，逆市涨停，提前见底，或者先于大盘启动，并且经受大盘一轮下跌考验。再如12月2日出现的新龙头太原刚玉，它符合刚讲的龙头战法，一是从涨停开始，且筹码稳定，二是低价即3.91元，三是流通市值起动才4.5亿，周二才6.4亿，从底部起涨，炒到翻倍也不过10亿，也就是说不到2－3亿的私募资金或游资就可以炒作。四是该股日周月KDJ同时金叉，说明该股主力有备而来。五是该股在大盘恐慌末端，逆市涨停，此时大盘还在下跌，但并没有影响此股涨停。通过以上介绍可以看出龙头的起涨过程，也说明下跌并不可怕，可怕的是大盘下跌，没有龙头出现。

二、识别注意事项：

1、热点切换中识别：龙头会在大盘下跌末端逆市涨停。提前大盘见底。如双飞，双浪的转换。龙头一般出现三日以上的攻击性放量。

2、放量性质识别：放量有攻击性和补仓性两种类型。单日放量不可能充当龙头。

3、量价配合。均线良好是识别龙头股的关键。

4、龙头有两种：一是热点切换进去的新龙头。二是老龙头调整到位后，二次上涨。

华卓精科会成为国企吗

会的。华卓精科将首发上会，冲刺科创板IPO。据了解，华卓精科如果能成功上市，或将成为国产光刻机第一股。华卓精科成立于2012年，虽被誉为国产光刻机第一股，但公司不生产光刻机整机，而是聚焦EUV光刻机双工件台技术。华卓精科成立于2012年，虽被誉为国产光刻机第一股，但公司不生产光刻机整机，而是聚焦EUV光刻机双工件台技术的厂商。

光刻机唯一上市公司

光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：

1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

拓展资料：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。