中国造芯片不用光刻机（无光刻机能制造芯片吗）

不用光刻机，华为真的能制造出芯片吗？

为什么不能呢？但麻烦不要用“华为制造芯片”这种字眼，世界上任何一个国家都没办法建立一条完整的芯片设计、制造生产线，哪怕是台积电、三星这些代工厂，也是依赖于多国合作制造出来的光刻机完成的，除了这些公司本身是参与者之外，他们本身的技术也不够独立自主的制造出“最先进”的光刻机，就拿荷兰ASML公司生产的光刻机来说，这也是集合了世界上很多个国家的高新科技才制造出来的。

所以，要么华为直接像这家公司购买光刻机，要么就只能委托给其他有能力生产芯片的企业来代工制造。要知道以华为现在的能力是可以制造芯片的，但制造芯片与制造顶级芯片是不同的。华为最强大的地方在于芯片设计能力，而光刻机作为制造顶级芯片的工具存在，没有它就无法将华为设计出来的顶级芯片制造出来，所以光刻机对于华为来说才会显得这么重要。

但没有光刻机不代表华为就造不出芯片，而华为的目的不仅仅是制造芯片，而是制造出高端芯片，甚至是自主研发出光刻机或者其他的生产设备，这才是主要目的。就拿国内自己颜值的光刻机来说，实际上也是可以制造出芯片的，而这种芯片的性能与国外同等规格的相比，其性能也不见得弱到哪里去，只不过是无法制造最高端的那种，可以毫不夸张的说，国外的芯片制造技术甩国内好几条街。

而对于华为来说，除了自研芯片制造技术之外，从成本和战略发展上考虑，委托专业的制造商来制造芯片，比自己研发、设计、制造要划算得多，但因为受到制裁和限制，华为万不得已才开始自己研发。不过有一点要申明，以目前来看，芯片承载的东西较多，在很多设备上都需要应用到芯片，但这并不代表一些设备离开了芯片就无法生产和制造了，就拿鸿蒙系统来说，如果真的能够一直发展下去，哪怕没有芯片或者以国内的芯片生产能力，也足够满足华为的需求。而光刻机只是生产芯片的一种设备，是以目前的生产条件对比，最适合生产芯片的设备，但不是唯一的设备。所以，您的这种说法，本身就是错误的。

无需EUV光刻机，7nm芯片传来喜讯，5nm芯片展开技术攻关

光刻是芯片制造中最关键的技术，光刻工艺与芯片中晶体管的尺寸与性能直接相关。光刻机的精度，限制了芯片的最小尺寸。

目前，生产7nm及以下制程芯片，需要依赖光源波长为13.5nm的EUV光刻机。ASML是唯一能生产EUV光刻机的企业。

然而，受《瓦森纳协定》的限制，ASML进入中国市场已有30多年，中国大陆却始终没有买来一台EUV光刻机。这限制了中国芯片制造业的发展。

即便如此，中芯国际依然没有放弃对更先进制程芯片的攻克。在2019年末，中芯国际实现了14nm芯片的量产。

而据中芯国际联席CEO梁孟松透露，中芯国际7nm技术已经完成开发，将在2020年4月份进入风险量产。 在近日，中芯国际又传出了新消息。

日前，中芯国际12英寸“SN1项目”曝光，这是其14nm及以下工艺研发与量产的主要承载平台，将推动中芯国际早日实现7nm制程。

而且，中芯国际的7nm并不需要EUV光刻机。

如此一来，中国芯片制造业将向前迈进一大步，实现高端芯片自给自足。

据悉，中芯国际SN1项目将耗资90.59亿美元，仅购买与安装生产设备便要73.3亿美元。

按照计划，中芯南方将负责这一项目，计划产能为3.5万片晶圆/月。

在更先进的5nm芯片上，中芯国际早已开始布局，并取得了一定的成果。

在前段时间梁孟松辞职风波中，据网传梁孟松辞职信透露，中芯国际5nm和3nm的最关键、也是最艰巨的8大项技术也已经有序展开。

等EUV光刻机到来之后，中芯国际便可全力开发。这无疑是一个振奋人心的好消息。

在中芯国际的带领下，国产芯片迎来突围，离着2025年芯片自给率70%的目标越来越近。

但是，EUV光刻机是中芯国际攻克5nm，必不可少的关键设备。目前，ASML已对可生产7nm芯片的DUV光刻机松口，但对于EUV光刻机却丝毫没有回旋的余地。

EUV光刻机短缺，仍是挡在中国芯片路上的巨大拦路石。光刻机研制难度高，是半导体皇冠上的明珠。

一台光刻机的零部件高达10万个，其中超90%的零部件，都是ASML都依赖于供应商。 也就是说，中国想要研究并制造出一台EUV光刻机难度极大，无法帮中芯国际缓解眼下的危机。

在这一情况下，中芯国际将如何应对，就让我们拭目以待。

文/BU 审/QKF

没有光刻机也能造芯片!中国是怎么做到的?效率提高整整1000倍

没有光刻机也能造芯片！我国用晶圆硅片造芯片，效率提高了1000倍。值得一提的是，中国现在其实已经有了自己的国产光刻机技术，上海微电子已经成功研发出自己的光刻机，并且即将进入量产阶段，而中国研发的量子芯片，在不借助光刻机的情况下能够研发成功，已经说明光刻机不是限制芯片技术发展的唯一条件，这种设备主要被用在硅基芯片的加工上，如果中国把芯片材质进行替换，那么就可以有效绕开技术瓶颈。

中国为什么造不出光刻机？

我国造不出光刻机，有以下三个原因：

1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展。

2.事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况下，我们很难获得国际市场的支持。

3.ASML的成功是因为其技术的局限性，更重要的是，它把一些企业当成了自己的股东，比如三星、台积电，英特尔等等。

所以在这种情况下，会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制，中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响，华为不得不受到限制。因此，只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机，才能打破这种束缚。