先进封装光刻机的用途（光刻机主要用于什么制造）

光刻机是干什么用的?

光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。

B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。

C自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

上海微电子的90纳米光刻机已经通过了验收，在公司有哪些实际作用？

这是我国拥有自主产权的光刻机。可以满足军用需求和卫星导航。

光刻机是一个高端领域。我国起步比较晚，因长期没有属于自己的光刻机产品，不得不依赖西方进口。让我国在军事领域受到别人的制约。半导体严重限制了我国军事和航天方面的发展。

一、光刻机的作用。

因为一些特殊发展原因导致我国光刻机发展水平低于欧美国家。一些核心领域使用的半导体光刻机，不得不从国外引进。由于完全依赖西方产品，导致国内市场半导体行业受到影响。上海微电子成功量产的光刻机，已于2021年交付使用。虽然与世界先进水平仍有差距，但是这是我国自主研发的光刻产品，基本上可以满足军用需求和国内市场。

二、国产90纳米光刻机作用。

上海微电子的90纳米光刻机，通过验收并且量产彻底改变了国产光刻机完全依赖进口的需求。这也是我国首台完全自主知识产权的产品。掌握光刻技术可以满足我国军用需求。不仅可以配备在北斗卫星导航系统上，也可以使用国产战斗机上面，在军事领域避免了被西方国家卡住核心利益。

三、我个人看法是什么？

此次量产的90纳米光刻机打破了西方国家对我国核心技术的封闭。可以确保我国芯片制作不会再被外国厂商威胁，可以确保我们在军事领域有了自己的主动权。虽然90纳米光刻机不是领先于世界水平，但是我们通过自身的努力证明了我们有能力可以制作属于自己的光刻机。完全可以实现国产化。让我们不再依赖西方进口。自主生产的国产芯片让我们没有了后顾之忧，确保了人民经济的稳固运转。

光刻机是干什么用的

光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的。所以说，光刻机就是把很大的电路图，通过透镜缩小到芯片那么大，然后用光线侵蚀掉光刻胶，达到自动形成电路的目的。

光刻机是非常复杂的机械，目前最厉害的光刻机生产商就是荷兰的ASML，他们现在已经能够生产刻出5nm线路的光刻机了。

光刻机的分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度不高。

半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。

自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

光刻机是干什么用的？

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

扩展资料

2019年与2020年在半导体领域，尤其是企业之间，光刻机是被炒得最热的一个话题，再怎么说芯片，最终都会说到光刻机上面去。

可能出口给我们DUV光刻机生产7nm的芯片，却将最先进的EUV光刻机出口给别的企业生产5nm芯片，即使不专门生产芯片的谷歌、高通，ASML也卖他们EUV光刻机。

参考资料：百度百科-光刻机

光刻机是什么意思 光刻机的作用

1、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

2、生产集成电路的简要步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

光刻机 是干什么用的 重要吗 能国产吗？

在现在的各种各样的电子产品中，芯片可以说是最重要的零件，而光刻机就是芯片制造的核心设备之一。

按照用途可以分为好几种，用于生产芯片；用于封装；用于LED制造领域。

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。